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[仿真讨论] Cadence-- Qin,你懂得.Cadence解决方案助力创意电子20纳米SoC测试芯片成功流片

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发表于 2013-7-18 23:44 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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本帖最后由 yuju 于 2013-7-18 23:45 编辑
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  `% W. V2 X% W/ W$ rcadence解决方案助力创意电子20纳米SoC测试芯片成功流片
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6 k/ o' o! k* j; h( C4 D                      出自:IC设计与制造
8 [; ?2 r& o0 {# N' z$ W5 r+ s& j1 z. R+ x$ l
Cadence Encounter数字实现系统与Cadence光刻物理分析器
) T  S: l: C) [4 _( C" ~/ @" u: M* l) _1 Z: n
可降低风险并缩短设计周期
$ ~% I' z' p9 }- R3 ~
0 r$ B. A4 z( [4 Q7 Z5 ~全球电子设计创新领先企业Cadence设计系统公司(NASDAQ:CDNS) 今天宣布,设计服务公司创意电子(GUC)使用Cadence? Encounter?数字实现系统(EDI)和Cadence光刻物理分析器成功完成20纳米系统级芯片(SoC)测试芯片流片。双方工程师通过紧密合作,运用Cadence解决方案克服实施和可制造性设计(DFM)验证挑战,并最终完成设计。- y1 M, Q6 b8 Y% U
7 N; F" |: U3 e
在开发过程中,创意电子使用Cadence Encounter解决方案用于支持20纳米布局布线流程所有的复杂步骤,包括双图形库的制备、布局、时钟树综合、保持固定、布线和布线后优化。创意公司还使用Cadence Litho Physical Analyzer ( 光刻物理分析器)用于DFM验证,将20纳米工艺变化的不确定性变成可预见影响从而有助于缩短设计周期。* ?( ?" p9 _/ ~9 l: o$ M' b

+ U. G2 B; r4 [; ^ “我们选择Cadence作为这项开发的合作伙伴是由于Cadence在高级节点方面具有被证实的经验,” 创意电子设计方法部总监曾凯文先生表示。“台积电工艺20纳米SoC测试芯片的成功流片是双方紧密合作和Cadence Encounter与DFM解决方案高性能表现的直接成果。”+ `! @) p0 V5 ~
8 D' _/ f+ G/ t4 n9 f& T$ F9 `
“随着客户转向20纳米,他们正面临新的挑战,例如双成形和工艺变化等都大大增加了风险,”Cadence Silicon Realization集团研发高级副总裁徐季平博士表示。“Cadence已在实施和DFM验证工具方面解决了这些高级节点的挑战。公司正与合作伙伴紧密协作来验证这些新流程以降低风险,使其更容易让客户胸有成竹转向20纳米制程节点。/ Z% k) {/ D4 w0 s; Y! `
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