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anti_etch的使用

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1#
发表于 2008-6-25 19:14 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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我在分割的时候用through all的anti etch划分数字和模拟,中间还对通道进行了一下隔离,在分割电源的时候,电源平面的分割线与这个through all的anti etch有关没,两者要怎么区分呀?

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2#
发表于 2008-6-26 00:20 | 只看该作者
电源层的ANTI ETCH只对该电源层有用,对别的层没有意义: D4 l) u0 m) y% L( w+ o
though all的anti etch对每个负片层都有用,( q! |( E4 i. k: }7 U- C/ i
意思是如果你画了一条though all的anti etch,那么在这个位置每个负片层都是挖空铜皮的$ }- c9 C' e2 F8 q0 c
如果你在第n个层话的anti tich,那么只在该层该位置挖空铜皮,而其他的负片层不会因为该anti etch 有什么影响

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3#
 楼主| 发表于 2008-6-26 15:30 | 只看该作者
through all好像对信号层也有用吧(正片),比如top层和bottom层铺数字地和模拟地的时候

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4#
 楼主| 发表于 2008-6-26 15:35 | 只看该作者
我的所有层都要用anti etch分开,包括top bottom等信号层,以此达到数字和模拟分割,减少干扰,照你上面说的anti etch实现不了了?

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5#
发表于 2008-6-26 18:58 | 只看该作者
呵呵

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6#
发表于 2008-6-26 19:00 | 只看该作者
那就看你在光辉层怎么设置
, Y! J! F1 m% ]# `4 t我一般在正片不设置though all的

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7#
 楼主| 发表于 2008-6-30 17:02 | 只看该作者
看看

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8#
 楼主| 发表于 2008-6-30 17:10 | 只看该作者
老发不出去?& o# k5 i/ }1 t1 a: V

* E! f2 {4 |0 c5 G  x6 p[ Last edited by kxx27 at 2008-7-1 11:47 ]
- A4 A9 U0 ^, c; U- `1 H/ v0 h, U1 b3 D9 J: @2 D
[ 本帖最后由 kxx27 于 2008-7-2 10:59 编辑 ]
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