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微电子专业词汇

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发表于 2022-8-2 10:29 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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微电子专业词汇Abrupt junction 突变结 Accelerated testing 加速实验; ~% T& S) L( F) c9 n& o) `7 o
Acceptor 受主 Acceptor atom 受主原子
. I6 ~; y' u0 G- z4 T6 HAccumulation 积累、堆积 Accumulating contact 积累接触
( [, l7 N! G! ?* ]Accumulation region 积累区 Accumulation layer 积累层2 D2 P" F! p- l  w8 }- [
Active region 有源区 Active component 有源元% V8 d8 K2 |: e( B4 k. Y; R2 @: x5 D
Active device 有源器件 Activation 激活/ F; j, b6 U+ q% x
Activation energy 激活能 Active region 有源(放大)区* V1 d8 u( w4 x1 O
Admittance 导纳 Allowed band 允带
  W2 N+ ~1 J* h& C. x9 ]4 xAlloy-junction device 合金结器件 Aluminum(Aluminium) 铝  s0 e; N! P0 o. U% |
Aluminum – oxide 铝氧化物 Aluminum passivation 铝钝化
* q  m% M+ X& k4 yAmbipolar 双极的 Ambient temperature 环境温度
+ U; u, w4 Y4 Y; s, C% q/ vAmorphous 无定形的,非晶体的 Amplifier 功放 扩音器 放大器
* {8 v. A! q: b3 L! a$ a1 c2 ~1 ZAnalogue(Analog) comparator 模拟比较器 Angstrom 埃  K2 g' P& q, {( b7 q& P5 B* u' U9 L
Anneal 退火 Anisotropic 各向异性的7 g% c: ^9 L/ d4 R6 w
Anode 阳极 Arsenic (AS) 砷
& X% R8 {, \$ e( X0 HAuger 俄歇 Auger process 俄歇过程1 C: w) p- Q1 @8 ?: E9 \
Avalanche 雪崩 Avalanche breakdown 雪崩击穿/ `+ S! y5 F3 Z
Avalanche excitation雪崩激发- N( u7 q5 W% B: D- Y0 E% H7 C
Background carrier 本底载流子 Background doping 本底掺杂
) L8 k) S/ Z0 Y" u% \Backward 反向 Backward bias 反向偏置" U9 W- e: H1 m
Ballasting resistor 整流电阻 Ball bond 球形键合- ~. s" N! @  b( ?% s1 Z6 L; [. Y
Band 能带 Band gap 能带间隙
3 d4 |/ a* H1 v5 EBarrier 势垒 Barrier layer 势垒层* s4 U2 b/ S0 Z9 U* p
Barrier width 势垒宽度 Base 基极
5 @& b7 c8 V' VBase contact 基区接触 Base stretching 基区扩展效应 2 u3 k+ v3 Q( x
Base transit time 基区渡越时间 Base transport efficiency基区输运系数
  a0 e- o7 e7 J* f) r1 A1 vBase-width modulation基区宽度调制 Basis vector 基矢
9 Q$ F" v# [' P9 {  WBias 偏置 Bilateral switch 双向开关
9 F* `+ b* k, G. N1 O$ C' JBinary code 二进制代码 Binary compound semiconductor 二元化合物半导体4 R' i% Y. n7 L5 c2 f  ?
Bipolar 双极性的 Bipolar Junction Transistor (BJT)双极晶体管% H+ t! Z: H9 H. Y6 e
Bloch 布洛赫 Blocking band 阻挡能带
. Y. \5 I/ i$ S+ p% N0 G( Q- p* KBlocking contact 阻挡接触 Body - centered 体心立方
% B  v' w- |3 b2 D5 X8 FBody-centred cubic structure 体立心结构 Boltzmann 波尔兹曼
' N: s: S, y9 i8 b! z% n0 @Bond 键、键合 Bonding electron 价电子
1 m  ]( A: p5 i$ ~5 v% m" \# uBonding pad 键合点 Bootstrap circuit 自举电路
" H/ x6 |4 }4 gBootstrapped emitter follower 自举射极跟随器 Boron 硼
9 w: e$ ?, R& |Borosilicate glass 硼硅玻璃 Boundary condition 边界条件8 [3 i/ S# z! M7 p. {6 |
Bound electron 束缚电子 Breadboard 模拟板、实验板9 \7 x: Z2 O0 [9 V
Break down 击穿 Break over 转折4 m# x: e/ L0 a
Brillouin 布里渊 Brillouin zone 布里渊区/ B2 Z* m6 Q9 M$ S9 J4 Q; d/ Y) u
Built-in 内建的 Build-in electric field 内建电场
$ l+ A; m& ]1 h5 K. q" E7 oBulk 体/体内 Bulk absorption 体吸收# v6 u/ M" r, a) z" `" d
Bulk generation 体产生 Bulk recombination 体复合
; R  m; E6 X! Z% Y4 n4 NBurn - in 老化 Burn out 烧毁
8 E! Z) T; A- A( M) ?$ vBuried channel 埋沟 Buried diffusion region 隐埋扩散区 - ]" [7 q7 j0 o# s3 N6 P0 b) u
' n5 ]' |: E" p% G
- 1 - Created by rainman微电子专业词汇
# A7 a; f. w& W# v. o* k9 ICan 外壳 Capacitance 电容
/ L' a" k: r/ j" N' O- O) CCapture cross section 俘获截面 Capture carrier 俘获载流子
7 ?2 O/ M. H$ W  S/ UCarrier 载流子、载波 Carry bit 进位位 ( w1 t0 t: r  l( o0 o* L. f
Carry-in bit 进位输入 Carry-out bit 进位输出
  m1 b* M# }! B/ B( oCascade 级联 Case 管壳
) ^* e7 e/ }$ c( S: E* _3 ?" `Cathode 阴极 Center 中心
4 `: p1 o( ]$ n& D2 h0 C+ tCeramic 陶瓷(的) Channel 沟道4 ]7 x, X! @0 K- `' W0 ?# F
Channel breakdown 沟道击穿 Channel current 沟道电流, {+ o. T7 N% M/ M  k
Channel doping 沟道掺杂 Channel shortening 沟道缩短9 M* s+ k" }3 R7 J: P* Z2 j
Channel width 沟道宽度 Characteristic impedance 特征阻抗
6 `0 i% m; W3 K8 o/ lCharge 电荷、充电 Charge-compensation effects 电荷补偿效应
& [" A, z( g! M8 j( jCharge conservation 电荷守恒 Charge neutrality condition 电中性条件' N% C) ~: R2 F& n) X7 M: I8 S
Charge drive/exchange/sharing/transfer/storage 电荷驱动/交换/共享/转移/存储! [) [& u; q, `" \$ b" i
Chemmical etching 化学腐蚀法 Chemically-Polish 化学抛光% f7 E* w3 M% I7 U
Chemmically-Mechanically Polish (CMP) 化学机械抛光 Chip 芯片/ y5 O: e3 n" i2 Z
Chip yield 芯片成品率 Clamped 箝位! c* a' b* l. C
Clamping diode 箝位二极管 Cleavage plane 解理面
8 L( Y' U$ V& [5 hClock rate 时钟频率 Clock generator 时钟发生器
/ d; C- Z" [0 p$ ~4 aClock flip-flop 时钟触发器 Close-packed structure 密堆积结构& T( }8 c# ^5 I. }$ s" T5 A
Close-loop gain 闭环增益 Collector 集电极" }; ~9 {* a( ~" o) V
Collision 碰撞 Compensated OP-AMP 补偿运放
4 ^# I% X6 v9 Q& r1 T4 jCommon-base/collector/emitter connection 共基极/集电极/发射极连接4 }7 d1 i- K( b  G
Common-gate/drain/source connection 共栅/漏/源连接- _: @  L/ g, b4 R( W8 }
Common-mode gain 共模增益 Common-mode input 共模输入: @, p9 e4 r2 X: o8 d# u/ Q* A
Common-mode rejection ratio (CMRR) 共模抑制比
: o/ [; G9 }, bCompatibility 兼容性 Compensation 补偿4 d2 t3 X) a6 `0 S; c! T# A- m' K
Compensated impurities 补偿杂质 Compensated semiconductor 补偿半导体
8 p; r4 o* @1 L! `5 Z9 d3 aComplementary Darlington circuit 互补达林顿电路
% j2 c1 s) E& K8 L$ ?3 GComplementary Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor(CMOS)
! \, C0 H- L( Q* U互补金属氧化物半导体场效应晶体管3 S4 [2 q: F5 f5 ^' K
Complementary error function 余误差函数( [7 U3 b# l4 W5 [+ ~: j
Computer-aided design (CAD)/test(CAT)/manufacture(CAM) 计算机辅助设计/ 测试 /制造
$ _' @/ h& V" |) ^4 g  L$ t7 }" TCompound Semiconductor 化合物半导体 Conductance 电导/ U) Z% G+ J( K# i0 L' _  Q
Conduction band (edge) 导带(底) Conduction level/state 导带态
$ c6 x3 N' s/ e& P7 |% `0 kConductor 导体 Conductivity 电导率
$ f( N1 a. s; [8 gConfiguration 组态 Conlomb 库仑
2 D9 D, \2 G5 u/ b# A+ C8 z6 ~5 [Conpled Configuration Devices 结构组态 Constants 物理常数
5 e: Y0 Q- Z1 M; I5 f6 |# SConstant energy suRFace 等能面 Constant-source diffusion恒定源扩散
4 N' ~0 X: U% M- T6 G' IContact 接触 Contamination 治污
- a8 H: ^% ^' y' [: W; T  [6 TContinuity equation 连续性方程 Contact hole 接触孔
+ m* a# ?$ c0 \" LContact potential 接触电势 Continuity condition 连续性条件! L$ w9 W1 R8 T7 R$ H
Contra doping 反掺杂 Controlled 受控的
6 v7 s3 o- r" b4 QConverter 转换器 Conveyer 传输器
* v, R$ E4 ~! n4 C/ FCopper interconnection system 铜互连系统 Couping 耦合6 @$ g4 z. M3 S( W* g
Covalent 共阶的 Crossover 跨交& h" P. u3 j8 }1 @
Critical 临界的 Crossunder 穿交
- B0 e7 [9 I9 o  a1 Y: ^Crucible 坩埚 Crystal defect/face/orientation/lattice 晶体缺陷/晶面/晶向/晶格8 F9 f+ h- p# M% a2 I
Current density 电流密度 Curvature 曲率
. u* l8 E8 c4 d - 2 - Created by rainman微电子专业词汇- M: O; f! y5 G# m6 A
- 3 - Created by rainman
  l% s! t2 J" v5 ?! M* `Cut off 截止 Current drift/dirve/sharing 电流漂移/驱动/共享
- T- a' r% S8 [4 XCurrent Sense 电流取样 Curvature 弯曲
+ w, K) w9 H2 o1 ?8 G2 z: cCustom integrated circuit 定制集成电路 Cylindrical 柱面的
5 l! [, I7 Y3 R7 o; [Czochralshicrystal 直立单晶
! K, z: S; u3 \. ^  `3 ]Czochralski technique 切克劳斯基技术(Cz 法直拉晶体 J)
7 G: ^- I, j* J! p" y" eDangling bonds 悬挂键 Dark current 暗电流- A8 P$ P! n( K5 c
Dead time 空载时间 Debye length 德拜长度* j+ w( [3 G0 c8 K/ H
De.broglie 德布洛意 Decderate 减速  X2 W, R1 V6 C
Decibel (dB) 分贝 Decode 译码) N" s/ ?1 g6 D( i6 C' [
Deep acceptor level 深受主能级 Deep donor level 深施主能级
1 U, a; d" P' @  g9 g# p/ [) BDeep impurity level 深度杂质能级 Deep trap 深陷阱+ E# U* p: s% W7 L
Defeat 缺陷: a% Q( F3 l, u! T7 U0 F2 X6 l
Degenerate semiconductor 简并半导体 Degeneracy 简并度
# \: [+ w: G$ C: I& B$ N: {Degradation 退化 Degree Celsius(centigrade) /Kelvin 摄氏/开氏温度
; {. n7 A0 T' W: }+ s4 GDelay 延迟 Density 密度- O4 @/ K2 b+ h" n: V; F* y
Density of states 态密度 Depletion 耗尽
0 e# ?( D1 y+ _Depletion approximation 耗尽近似 Depletion contact 耗尽接触 # `" t/ k& E# ]4 F1 V( a
Depletion depth 耗尽深度 Depletion effect 耗尽效应
5 K7 i! w* z7 J" uDepletion layer 耗尽层 Depletion MOS 耗尽 MOS 3 v6 @4 G7 o! ]  Y2 K2 o0 f
Depletion region 耗尽区 Deposited film 淀积薄膜. `3 I. I0 {3 d6 X, y$ _
Deposition process 淀积工艺 Design rules 设计规则
; |+ d; `) _5 g8 ]" LDie 芯片(复数 dice) Diode 二极管
+ _* B1 m4 }- |; ^Dielectric 介电的 Dielectric isolation 介质隔离: N8 E7 n( u  w. z
Difference-mode input 差模输入 Differential amplifier 差分放大器
2 K  _7 _: v" q0 w  oDifferential capacitance 微分电容 Diffused junction 扩散结
, Z. m, ?+ D" j5 xDiffusion 扩散 Diffusion coefficient 扩散系数
- G$ w5 h  `/ f8 PDiffusion constant 扩散常数 Diffusivity 扩散率( p$ h% i# J2 F$ }9 R
Diffusion capacitance/barrier/current/furnace 扩散电容/势垒/电流/炉
) R- r- }. w3 y+ o# t' QDigital circuit 数字电路 Dipole domain 偶极畴
% a# `' c) u2 \4 ^, @Dipole layer 偶极层 Direct-coupling 直接耦合 % l* [1 c1 Y! _8 b9 q. R
Direct-gap semiconductor 直接带隙半导体 Direct transition 直接跃迁
% Y$ A' \* ^" o! f4 H1 N! ODischarge 放电 Discrete component 分立元件 ) n9 z. J4 L- u" t/ }
Dissipation 耗散 Distribution 分布1 {2 ^8 E, r0 Y4 Q/ O+ k3 a* E1 b
Distributed capacitance 分布电容 Distributed model 分布模型
, [2 P8 q: W7 y4 `+ vDisplacement 位移 Dislocation 位错
: j5 v& I+ [( y, B. S) dDomain 畴 Donor 施主
7 b, Q3 Y/ G1 R7 P5 E3 k5 n3 W9 RDonor exhaustion 施主耗尽 Dopant 掺杂剂
! |. h2 H4 N# h" h/ K/ y5 @Doped semiconductor 掺杂半导体 Doping concentration 掺杂浓度
' M  m; X9 w0 b$ V! C6 l. GDouble-diffusive MOS(DMOS)双扩散 MOS., ~0 q9 h  Q) I4 {9 l! b4 @
Drift 漂移 Drift field 漂移电场" ]# w7 r  k* j( d. p
Drift mobility 迁移率 Dry etching 干法腐蚀
- J! q. v  [: u% V) W5 yDry/wet oxidation 干/湿法氧化 Dose 剂量3 w! r  P& P# _. x
Duty cycle 工作周期 Dual-in-line package (DIP)
# Z' _3 d( N& Z: R' Z2 ~! P双列直插式封装
" c6 c6 ~% u" |  uDynamics 动态 Dynamic characteristics 动态属性
( w. _9 t" h/ F" }Dynamic impedance 动态阻抗" ^4 r" [  e  ^9 X$ L8 z* z
微电子专业词汇
* `2 l5 S! m) L9 G% U- lEarly effect 厄利效应 Early failure 早期失效- i1 p) h. r* o) C' X
Effective mass 有效质量 Einstein relation(ship) 爱因斯坦关系
6 f3 \. b* n1 H8 eElectric Erase Programmable Read Only Memory(E2PROM) 一次性电可擦除只读存储器
1 N0 I* ]2 l+ p0 Z! OElectrode 电极 Electrominggratim 电迁移
- m8 l; _( e* k9 l0 W$ I: @7 t3 AElectron affinity 电子亲和势 Electronic -grade 电子能
: t2 D+ _9 E8 P  @+ pElectron-beam photo-resist exposure 光致抗蚀剂的电子束曝光
; G8 c& s9 ]- d/ Z* ^7 F6 A7 u5 TElectron gas 电子气 Electron-grade water 电子级纯水
2 p: e0 p4 K% _  u2 sElectron trapping center 电子俘获中心 Electron Volt (eV) 电子伏
5 B, w& `: z0 v, k+ A* ZElectrostatic 静电的 Element 元素/元件/配件
6 e2 O' D% ~: `1 ]Elemental semiconductor 元素半导体 Ellipse 椭圆1 v; N. O) f( _% t6 z
Ellipsoid 椭球 Emitter 发射极 0 d7 r0 [7 |" q, e& v6 x
Emitter-coupled logic 发射极耦合逻辑 Emitter-coupled pair 发射极耦合对
6 @6 w6 Z8 [. t5 m3 JEmitter follower 射随器 Empty band 空带% h" x. v' ?8 @+ z! D
Emitter crowding effect 发射极集边(拥挤)效应 4 W8 s$ X: A7 b! g( }
Endurance test =life test 寿命测试 Energy state 能态
- E4 }5 u! X: R1 Z& yEnergy momentum diagram 能量-动量(E-K)图 Enhancement mode 增强型模式
- D" z: L7 G( P, xEnhancement MOS 增强性 MOS Entefic (低)共溶的
$ J* _9 \6 M( N0 ?Environmental test 环境测试 Epitaxial 外延的
! I& P6 a' Y8 Z* IEpitaxial layer 外延层 Epitaxial slice 外延片
. D7 I/ D$ |5 P% E/ Z7 }Expitaxy 外延 Equivalent curcuit 等效电路
5 \  n& V7 n: D/ kEquilibrium majority /minority carriers 平衡多数/少数载流子
# Z3 B! R1 b6 {7 ~6 IErasable Programmable ROM (EPROM)可搽取(编程)存储器
  Q' _% [3 a8 RError function complement 余误差函数
6 L2 g) r7 ~- |* U; v$ u$ F. X/ c7 REtch 刻蚀 Etchant 刻蚀剂4 J; ]/ [: |1 G
Etching mask 抗蚀剂掩模 Excess carrier 过剩载流子% f9 [1 u; T( y3 o. @
Excitation energy 激发能 Excited state 激发态0 y* S; h2 k: ]+ a+ I
Exciton 激子 Extrapolation 外推法
! P: e7 U! s' l  R/ iExtrinsic 非本征的 Extrinsic semiconductor 杂质半导体6 v. l: N4 S2 T9 A* A, ]* o. y
Face - centered 面心立方 Fall time 下降时间
& R/ c9 Q3 q! P* K2 S2 d8 uFan-in 扇入 Fan-out 扇出. N7 R2 o# @: k- O. O8 d
Fast recovery 快恢复 Fast surface states 快界面态+ `' C1 b7 h8 |
Feedback 反馈 Fermi level 费米能级
) o* Q2 _0 {! p- w/ ZFermi-Dirac Distribution 费米-狄拉克分布 Femi potential 费米势
: c, z3 ^, g( O2 d- v$ {Fick equation 菲克方程(扩散) Field effect transistor 场效应晶体管
/ ~+ f1 `7 d, w' kField oxide 场氧化层 Filled band 满带
: p1 ]( y! t  N* y* gFilm 薄膜 Flash memory 闪烁存储器
& {; V. ^8 {2 O# i7 I( w1 VFlat band 平带 Flat pack 扁平封装
2 D! h: m& V% w2 w+ J( S: eFlicker noise 闪烁(变)噪声 Flip-flop toggle 触发器翻转2 A8 V! v( A$ H' @
Floating gate 浮栅 Fluoride etch 氟化氢刻蚀$ w% i0 D1 c& z( \' x
Forbidden band 禁带 Forward bias 正向偏置2 U& ~+ Z! y5 W+ I
Forward blocking /conducting 正向阻断/导通
# D! I" t; P* r# _* b/ TFrequency deviation noise 频率漂移噪声
) M3 x, |" F5 f: M$ aFrequency response 频率响应 Function 函数3 Z' |+ M7 h, t1 f
Gain 增益 Gallium-Arsenide(GaAs) 砷化钾
1 U2 h7 f8 I, |0 _/ hGamy ray r 射线 Gate 门、栅、控制极; h& z1 V/ g& L) M
Gate oxide 栅氧化层 Gauss(ian) 高斯% [8 r0 o* F" x2 Y! S
- 4 - Created by rainman微电子专业词汇% |' a, Y, K( `2 K1 D" l' p) l0 u
Gaussian distribution profile 高斯掺杂分布 Generation-recombination 产生-复合
& S/ c; G5 \$ cGeometries 几何尺寸 Germanium(Ge) 锗
/ J9 P& a5 m3 W# b& IGraded 缓变的 Graded (gradual) channel 缓变沟道3 a# o3 ^5 G0 |7 E. m
Graded junction 缓变结 Grain 晶粒
( {" B6 e, b- V. `3 d, j- rGradient 梯度 Grown junction 生长结
+ \' v9 C1 d/ t; JGuard ring 保护环 Gummel-Poom model 葛谋-潘 模型4 A& c3 J4 ~0 u/ W4 ]
Gunn - effect 狄氏效应
/ }2 D7 \' F+ s7 f1 `Hardened device 辐射加固器件 Heat of formation 形成热; l) d( x" E+ K- U8 ?3 n* H
Heat sink 散热器、热沉 Heavy/light hole band 重/轻 空穴带
/ T3 Q9 T! p% {9 |0 B2 K& I9 uHeavy saturation 重掺杂 Hell - effect 霍尔效应: Q1 ~' z# g7 }8 X* u$ q
Heterojunction 异质结 Heterojunction structure 异质结结构( l, Q7 B! |+ m* l
Heterojunction Bipolar Transistor(HBT)异质结双极型晶体
9 J& r! T1 h( V, E0 J! zHigh field property 高场特性
' |9 L) Z/ V. LHigh-performance MOS.( H-MOS)高性能 MOS. Hormalized 归一化+ A8 z* o4 ?4 r( `
Horizontal epitaxial reactor 卧式外延反应器 Hot carrior 热载流子& w; N9 r: N& p, c2 O) d. ]
Hybrid integration 混合集成
5 R* j9 ]. _& |, z) wImage - force 镜象力 Impact ionization 碰撞电离
' Y- K9 f: l' b. N* x* G+ hImpedance 阻抗 Imperfect structure 不完整结构$ K2 W" p6 B& M0 x( h! k* L8 Y# t
Implantation dose 注入剂量 Implanted ion 注入离子
8 c8 w5 v/ o5 q) w7 i, Z! EImpurity 杂质 Impurity scattering 杂志散射
& R# f  U, b% K8 L" H6 }Incremental resistance 电阻增量(微分电阻)In-contact mask 接触式掩模+ K7 d0 o& E9 G2 c5 X6 [% L
Indium tin oxide (ITO) 铟锡氧化物 Induced channel 感应沟道
' e* @6 G$ ~6 h9 z/ BInfrared 红外的 Injection 注入
: s: T, \& [, s# F/ wInput offset voltage 输入失调电压 Insulator 绝缘体
- |: {7 a/ M( O& G$ t, tInsulated Gate FET(IGFET)绝缘栅 FET Integrated injection logic 集成注入逻辑
# b& a! Q: o: H# [' [Integration 集成、积分 Interconnection 互连+ `+ v* a* N( Z8 {* w  S) _
Interconnection time delay 互连延时 Interdigitated structure 交互式结构 , K( A# S: ^* [. r( U
Interface 界面 Interference 干涉
2 C; J7 _3 ]2 ?$ b' iInternational system of unions 国际单位制 Internally scattering 谷间散射2 }+ C8 R  N& B: }' L. m# d- a% a6 M
Interpolation 内插法 Intrinsic 本征的 * n+ L  G% B9 s6 I7 E4 {
Intrinsic semiconductor 本征半导体 Inverse operation 反向工作& U8 s( Y" b1 \6 ]" o. d8 _/ S
Inversion 反型 Inverter 倒相器: r6 ]. Q; ~  N* U0 t. n3 T- v
Ion 离子 Ion beam 离子束
1 a# b" |' |- r! @Ion etching 离子刻蚀 Ion implantation 离子注入
" A! y7 z; c: _' m& SIonization 电离 Ionization energy 电离能6 F* m  A1 U# f1 Y6 k+ J
Irradiation 辐照 Isolation land 隔离岛( {& B* H$ [% q, @1 |: X1 ~
Isotropic 各向同性
% G% ]% f  a- b4 ~, |Junction FET(JFET) 结型场效应管 Junction isolation 结隔离
( k8 ?$ d) o2 R' M9 C- q& `) zJunction spacing 结间距 Junction side-wall 结侧壁
# q9 Q+ @4 g( _# fLatch up 闭锁 Lateral 横向的4 ~' I0 R$ z3 i* N- Z8 w
Lattice 晶格 Layout 版图
$ B% r$ O7 t3 v" z* W2 ]- i( \) MLattice binding/cell/constant/defect/distortion 晶格结合力/晶胞/晶格/晶格常熟/晶
' t& D) X# b* l8 X格缺陷/晶格畸变, I4 J$ z) h1 M3 p8 t) x9 W2 ?) z8 F
Leakage current (泄)漏电流 Level shifting 电平移动# C4 O3 S# R- n/ W  n9 s  L: v
- 5 - Created by rainman微电子专业词汇5 C6 |4 p; ^. Q# W( j$ ~
Life time 寿命 linearity 线性度0 Y5 C! m- h% U% q) J
Linked bond 共价键 Liquid Nitrogen 液氮
4 ^% @( [  |; L$ F+ q# ]. iLiquid-phase epitaxial growth technique 液相外延生长技术 - P9 S# [" s# _
Lithography 光刻 Light Emitting Diode(LED) 发光二极管
4 I2 X" E( G6 X3 r5 JLoad line or Variable 负载线 Locating and Wiring 布局布线
9 P: N+ K! n0 U! e: X6 A' \$ CLongitudinal 纵向的 Logic swing 逻辑摆幅
2 K. c7 r+ e- \0 {% R( A7 CLorentz 洛沦兹 Lumped model 集总模型$ W- n/ V- O4 F+ h) U' X. W7 c' Q
Majority carrier 多数载流子 Mask 掩膜板,光刻板
, m) t+ `" t: r5 Y3 O: }Mask level 掩模序号 Mask set 掩模组 & V7 }$ W4 F( ?2 M
Mass - action law 质量守恒定律 Master-slave D flip-flop 主从 D 触发器) _5 W4 C+ i( [- C. w; ]- O
Matching 匹配 Maxwell 麦克斯韦
; s( Z8 t$ `2 \: x5 x# gMean free path 平均自由程 Meandered emitter junction梳状发射极结6 w' m' s$ F# a+ `2 ^" H
Mean time before failure (MTBF) 平均工作时间
( V) |& A6 `$ @% }0 b& c, hMegeto - resistance 磁阻 Mesa 台面
+ P2 ~5 A, d/ R+ C. ~9 u0 t; PMESFET-Metal Semiconductor 金属半导体 FET2 }: H, r4 u$ [: M& T/ d
Metallization 金属化 Microelectronic technique 微电子技术7 k: |2 n8 E" J2 b& b5 s5 B
Microelectronics 微电子学 Millen indices 密勒指数0 W2 C9 g& O; s3 ^0 V; B- ]
Minority carrier 少数载流子 Misfit 失配
& ?5 n; t9 _6 o  k/ E' D* nMismatching 失配 Mobile ions 可动离子 3 f# W9 z& t& w" C- t
Mobility 迁移率 Module 模块2 e) r1 I4 M& v# C' [
Modulate 调制 Molecular crystal 分子晶体  _- K1 `. I4 g; r1 `8 J
Monolithic IC 单片 IC MOSFET 金属氧化物半导体场效应晶体管; h5 {! W* p0 c  h* V/ u
Mos. Transistor(MOST )MOS. 晶体管 Multiplication 倍增0 N! u! @. V) Q% d& D1 @8 \, f
Modulator 调制 Multi-chip IC 多芯片 IC
5 ?4 m7 v+ E8 S2 iMulti-chip module(MCM) 多芯片模块 Multiplication coefficient 倍增因子0 i; T& l7 F0 ]; ?# s% P8 u
Naked chip 未封装的芯片(裸片) Negative feedback 负反馈) x. m4 V5 M0 P9 p  G
Negative resistance 负阻 Nesting 套刻
* p/ z* F: p% c2 mNegative-temperature-coefficient 负温度系数 Noise margin 噪声容限5 @: z# e" x1 d3 ?
Nonequilibrium 非平衡 Nonrolatile 非挥发(易失)性" X4 e+ M; t) S( p, z8 [$ W. F
Normally off/on 常闭/开 Numerical analysis 数值分析) Y  t; H% k& `: K
Occupied band 满带 Officienay 功率$ Q; G/ Z& S8 ^; p- y' K  Q0 E
Offset 偏移、失调 On standby 待命状态  H% T7 u# ]7 w/ J( Q
Ohmic contact 欧姆接触 Open circuit 开路) x* T4 ]/ k; u" f$ u2 w, @
Operating point 工作点 Operating bias 工作偏置% V; u8 C. f* b3 K! G' i
Operational amplifier (OPAMP)运算放大器
1 A/ l+ h0 x% ?. Y' _7 WOptical photon =photon 光子 Optical quenching 光猝灭
# V: ]9 v3 e% `8 \1 A9 r- n5 }0 UOptical transition 光跃迁 Optical-coupled isolator 光耦合隔离器* g( _6 q4 ~2 i4 E8 U* @$ N# L7 w
Organic semiconductor 有机半导体 Orientation 晶向、定向
; Q/ \* J7 p: [  sOutline 外形 Out-of-contact mask 非接触式掩模
) e/ f2 F& Z+ W+ P4 U" _Output characteristic 输出特性 Output voltage swing 输出电压摆幅
) m. z; x* C* A$ y+ K' o4 JOvercompensation 过补偿 Over-current protection 过流保护 # C( ^) d/ m+ r% N
Over shoot 过冲 Over-voltage protection 过压保护* S3 R- B9 Q6 E, [% X
Overlap 交迭 Overload 过载) `$ w3 Z* L5 `
Oscillator 振荡器 Oxide 氧化物 ; l& b. G5 w( s9 ^" W4 N3 T3 |6 C
Oxidation 氧化 Oxide passivation 氧化层钝化4 u9 V8 x( L! A; r0 W
- 6 - Created by rainman微电子专业词汇
, ~- }4 F2 _- W$ R/ p$ aPackage 封装 Pad 压焊点
" r5 ]- O! r* R2 P9 \0 J4 fParameter 参数 Parasitic effect 寄生效应
7 W* a7 i1 \: t2 pParasitic oscillation 寄生振荡 Passination 钝化
* s0 M! z2 h+ Z) ]* x+ ]Passive component 无源元件 Passive device 无源器件
: o+ J* D, [' d4 u$ z* dPassive surface 钝化界面 Parasitic transistor 寄生晶体管 8 b% e  U- M( n: q1 r2 Z) V
Peak-point voltage 峰点电压 Peak voltage 峰值电压 - C3 \" g/ C, u: c6 L1 q
Permanent-storage circuit 永久存储电路 Period 周期 ( R. z+ z; d6 Y# k6 B. u
Periodic table 周期表 Permeable - base 可渗透基区
" d( y' [% G7 K6 k+ `2 r* u9 EPhase-lock loop 锁相环 Phase drift 相移7 }) w4 V% z$ e. I6 S
Phonon spectra 声子谱4 ]- g# h2 ]" S. w# J
Photo conduction 光电导 Photo diode 光电二极管
1 h! G+ e" B- I$ y- V% j" z, QPhotoelectric cell 光电池
& V, V1 Z4 i8 H- XPhotoelectric effect 光电效应 7 _- g3 K! U( H+ @- J1 e
Photoenic devices 光子器件 Photolithographic process 光刻工艺7 u, [6 l% p& o3 {
(photo) resist (光敏)抗腐蚀剂 Pin 管脚! ^; j3 s7 q# m) F& s0 b. U9 g0 N
Pinch off 夹断 Pinning of Fermi level 费米能级的钉扎(效应) ( B  @9 E6 X3 ^
Planar process 平面工艺 Planar transistor 平面晶体管/ b* W  P% r2 m5 c
Plasma 等离子体 Plezoelectric effect 压电效应
. F. p, }- L" I) d& o( @Poisson equation 泊松方程 Point contact 点接触  K* d5 Z5 h. R$ T
Polarity 极性 Polycrystal 多晶- p2 C" O4 A4 j3 _7 ^, b
Polymer semiconductor 聚合物半导体 Poly-silicon 多晶硅
- s4 ^2 J& @: |  r& ~5 yPotential (电)势 Potential barrier 势垒
/ H+ q+ J& |! X# a6 Y4 r/ MPotential well 势阱 Power dissipation 功耗: |! X& N) W9 {2 ~3 X8 B
Power transistor 功率晶体管 Preamplifier 前置放大器7 p, J" C9 ?5 h: [
Primary flat 主平面 Principal axes 主轴
! |: l8 r6 M2 ^  @( {: Z. XPrint-circuit board(PCB) 印制电路板 Probability 几率$ M. T- {3 S% Z- }2 a, {6 N
Probe 探针 Process 工艺
* o9 k+ w7 Y9 G8 u; T2 ZPropagation delay 传输延时 Pseudopotential method 膺势发   z2 w3 C* ]8 N, Q8 P; }
Punch through 穿通 Pulse triggering/modulating 脉冲触发/调制( X* G3 p% ~& M8 D- P8 h
Pulse Widen Modulator(PWM) 脉冲宽度调制
% T* l$ q9 q/ y* UPunchthrough 穿通 Push-pull stage 推挽级
' N: Q; V( I8 ^; U# a9 v8 GQuality factor 品质因子 Quantization 量子化
  J  E0 D! r5 M* ?; L- ~% CQuantum 量子 Quantum efficiency量子效应
" x4 [- z) @. r+ Z& D! I# P4 jQuantum mechanics 量子力学 Quasi – Fermi-level 准费米能级
9 w4 `+ t- E3 c( [4 e" t- G' T( XQuartz 石英
& q& k1 Y3 M& K6 M, h0 F% R5 X5 p4 DRadiation conductivity 辐射电导率 Radiation damage 辐射损伤0 L  f9 Q, q( A3 @! A5 d
Radiation flux density 辐射通量密度 Radiation hardening 辐射加固0 F+ v& h& t8 y& L* k
Radiation protection 辐射保护 Radiative - recombination辐照复合
. q3 ^' T5 Y$ u) n3 ~- y% }- [Radioactive 放射性 Reach through 穿通: z2 L: u2 l: s# [+ [% u6 W0 o
Reactive sputtering source 反应溅射源 Read diode 里德二极管
. s: v$ J+ Z  r+ QRecombination 复合 Recovery diode 恢复二极管3 ^. X$ I: N) h! d) H
Reciprocal lattice 倒核子 Recovery time 恢复时间8 G+ Y  v9 L5 r  Z2 y; L
Rectifier 整流器(管) Rectifying contact 整流接触
- N1 t/ k# r# z0 i4 e% }Reference 基准点 基准 参考点 Refractive index 折射率
- u. t) W# W/ _( l/ x  w7 l4 aRegister 寄存器 Registration 对准
' V+ g$ O, }3 D9 o* \Regulate 控制 调整 Relaxation lifetime 驰豫时间. L8 `! I/ Q/ C8 b
- 7 - Created by rainman微电子专业词汇
, }$ b  e. G! _' jReliability 可靠性 Resonance 谐振
- l4 ]7 }9 ^' w- f. HResistance 电阻 Resistor 电阻器 * N" B/ }7 x/ ^  g8 r) d
Resistivity 电阻率 Regulator 稳压管(器)
" g4 a' `' J3 X& X% s# a5 d2 ~Relaxation 驰豫 Resonant frequency共射频
+ u# _+ Y8 m: j' WResponse time 响应时间 Reverse 反向的
/ T3 p+ o0 i. k( w) z# f% ]2 f0 eReverse bias 反向偏置( m+ N# L& M; T
Sampling circuit 取样电路 Sapphire 蓝宝石(Al2O3)8 ^5 A- h0 W# c7 h8 Q5 O
Satellite valley 卫星谷 Saturated current range 电流饱和区
& ?. {9 @) \# J  U; XSaturation region 饱和区 Saturation 饱和的
2 p& _: K' q4 G( oScaled down 按比例缩小 Scattering 散射+ r1 g/ ]  _; z! ~8 d& ?
Schockley diode 肖克莱二极管 Schottky 肖特基
3 o8 k" L+ @6 ?# d% t4 A7 ZSchottky barrier 肖特基势垒 Schottky contact 肖特基接触/ B0 n& b, Y# x% M0 S( W
Schrodingen 薛定厄 Scribing grid 划片格
( W3 E  B) ?8 k  o- G" y2 LSecondary flat 次平面0 C! J. o4 Q- u, t% V+ @* Z' r& r
Seed crystal 籽晶 Segregation 分凝
) X0 {5 {# n! S4 s7 K4 H0 {Selectivity 选择性 Self aligned 自对准的 # a7 o' g4 y: D: f
Self diffusion 自扩散 Semiconductor 半导体
, ?! W0 e% g7 fSemiconductor-controlled rectifier 可控硅 Sendsitivity 灵敏度
. }" ]% a. |3 ~! U4 O8 fSerial 串行/串联 Series inductance 串联电感
. t% X. e+ W9 r9 xSettle time 建立时间 Sheet resistance 薄层电阻" ]2 O! t8 B5 T# p  V! F& `8 W) G
Shield 屏蔽 Short circuit 短路
1 u3 ^  N9 V; I3 {) g- sShot noise 散粒噪声 Shunt 分流  {: A9 k3 S5 Y6 z  l
Sidewall capacitance 边墙电容 Signal 信号 + r* J( v' S( ~% P) f% z' [' y
Silica glass 石英玻璃 Silicon 硅. N7 J" Y; U* Q( l7 ~
Silicon carbide 碳化硅 Silicon dioxide (SiO2) 二氧化硅- a, y7 G' E* b
Silicon Nitride(Si3N4) 氮化硅 Silicon On Insulator 绝缘硅
* g" N5 O6 e* q& ], \; z) b: lSiliver whiskers 银须 Simple cubic 简立方. @% Y. I1 h, B, L
Single crystal 单晶 Sink 沉
$ d% W0 J( D, ~1 }) LSkin effect 趋肤效应 Snap time 急变时间
% _8 |. v7 s) a9 }$ p; Q5 L3 USneak path 潜行通路 Sulethreshold 亚阈的+ g, P8 |. `: U9 ^
Solar battery/cell 太阳能电池 Solid circuit 固体电路
8 G- f) o4 J3 `' Q/ o7 ^Solid Solubility 固溶度 Sonband 子带7 S, j2 d. p  o7 q9 r; E3 e
Source 源极 Source follower 源随器5 E% M: a/ E1 e% p+ p' C3 ]/ t
Space charge 空间电荷 Specific heat(PT) 热' t" t6 X) K1 c  ?1 J/ b
Speed-power product 速度功耗乘积 Spherical 球面的 5 ~, |- G! Q5 o4 P1 m
Spin 自旋 Split 分裂
- }; R) @0 m' v1 V! ESpontaneous emission 自发发射 Spreading resistance 扩展电阻# x+ A7 l# y7 \& q8 O
Sputter 溅射 Stacking fault 层错
' e9 L' D0 J7 l) v% O+ XStatic characteristic 静态特性 Stimulated emission 受激发射 7 D0 e$ v7 a5 }/ G
Stimulated recombination 受激复合 Storage time 存储时间
0 |2 K% K; c, u" G4 C" nStress 应力 Straggle 偏差 & f' u% w- n  I- D
Sublimation 升华 Substrate 衬底6 g; N6 s- z$ T  x0 B/ X- j
Substitutional 替位式的 Superlattice 超晶格
6 n& ?0 n5 Q. D% P3 ASupply 电源 Surface 表面 ( l7 `5 y* p4 @) P' l# v
Surge capacity 浪涌能力 Subscript 下标% V% V; p; c  L( O
Switching time 开关时间 Switch 开关
7 t/ a# [/ R; m. Q8 @" L" i7 { - 8 - Created by rainman微电子专业词汇; A4 Z+ m; Z+ @5 Y. I
Tailing 扩展 Terminal 终端
6 ?1 ~1 m8 w7 h$ Z5 zTensor 张量 Tensorial 张量的# V8 ^3 l7 ]5 ]. k' K, `
Thermal activation 热激发 Thermal conductivity 热导率$ _  `2 t! O2 g, k3 Q" U" C
Thermal equilibrium 热平衡 Thermal Oxidation 热氧化
$ B7 y" l  b2 k  }% ]Thermal resistance 热阻 Thermal sink 热沉$ D2 t; o; I1 x% C- D$ V0 A
Thermal velocity 热运动 Thermoelectricpovoer 温差电动势率3 P& p0 N% A6 N
Thick-film technique 厚膜技术 Thin-film hybrid IC 薄膜混合集成电路
& s6 p2 F6 G0 V; C" HThin-Film Transistor(TFT) 薄膜晶体 Threshlod 阈值
" \9 l& T! q: |% Z3 `2 WThyistor 晶闸管 Transconductance 跨导 # o$ g! Q$ n  J  R5 a% i. h
Transfer characteristic 转移特性 Transfer electron 转移电子
6 ]5 s9 W) t! {, FTransfer function 传输函数 Transient 瞬态的
( M0 Z) w' x7 Y1 k: L, W4 nTransistor aging(stress) 晶体管老化 Transit time 渡越时间
1 @) X1 T% d) A; iTransition 跃迁 Transition-metal silica 过度金属硅化物
3 U: E8 t$ N, w2 Z' v0 K9 ^# RTransition probability 跃迁几率 Transition region 过渡区
6 _3 R! a2 v* Y" X4 ^. C  O/ ?Transport 输运 Transverse 横向的6 _3 B4 Q  e* a0 r6 t$ W, t
Trap 陷阱 Trapping 俘获
9 e; U; I- d* {+ R( [0 G/ fTrapped charge 陷阱电荷 Triangle generator 三角波发生器/ ^2 E& b* K( }( U5 h- K" V" ]
Triboelectricity 摩擦电 Trigger 触发
0 ^) {" `+ [% k! |Trim 调配 调整 Triple diffusion 三重扩散 % Y' H) w4 T7 C+ J
Truth table 真值表 Tolerahce 容差
) Y( n/ K# T, [Tunnel(ing) 隧道(穿) Tunnel current 隧道电流
9 J: a/ o- [. @% u+ P+ [% ^Turn over 转折 Turn - off time 关断时间
3 r# [1 T- F# e' ]$ _1 Z  E' QUltraviolet 紫外的 Unijunction 单结的2 H& G" G* I" I! A* b5 @
Unipolar 单极的 Unit cell 原(元)胞) T$ |! s' r1 D. r/ y4 S$ W/ B
Unity-gain frequency 单位增益频率 Unilateral-switch单向开关
  g6 i3 V& y" p0 b5 }8 RVacancy 空位 Vacuum 真空
+ c9 D2 L5 v6 q# [) d; p0 O5 n" i' LValence(value) band 价带 Value band edge 价带顶
" M& c( K1 F# L% h, oValence bond 价键 Vapour phase 汽相. G1 i1 J- s( J1 V
Varactor 变容管 Varistor 变阻器+ [5 q% \& g, y% S& M" L- n
Vibration 振动 Voltage 电压
! J+ [! {. U: A+ {  KWafer 晶片 Wave equation 波动方程 / @( t9 c* Y  c
Wave guide 波导 Wave number 波数
  S* M2 Q, L; B2 eWave-particle duality 波粒二相性 Wear-out 烧毁
" U, ]# ?& [" v- T" HWire routing 布线 Work function 功函数
9 E/ J& o$ W  T9 xWorst-case device 最坏情况器件
: f  ^2 b3 e; J/ O. Q8 gYield 成品率3 v7 C5 ~6 u- w# z" V
Zener breakdown 齐纳击穿0 h0 t% z# v* @) N" J5 ], x
Zone melting 区熔法
: W, }' m5 V7 |- I) {! F8 K - 9 - Created by rainman* m$ k6 F! ?! ~" I0 d
, Q' @  j3 Y3 n- |: o8 B1 a

该用户从未签到

2#
发表于 2022-8-2 11:19 | 只看该作者
大佬发表的帖子,感觉很厉害,很棒,在这里可以取得很大的收获,O(∩_∩)O哈哈~

该用户从未签到

3#
发表于 2022-8-2 13:35 | 只看该作者
详细啊,详细。学习
. Z+ A) k! }4 F4 h1 k4 `4 R9 {记录了
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