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IC的可靠性受诸多因素的影响。2 [! T3 L2 J! d* h; h# ?$ {/ I4 G: Q
/ Z6 C& L a+ C2 L& ]0 p
7 Z3 T2 V5 x4 y" R3 F软错误(soft error)( R) S9 c% a5 U- j3 J) X
温度3 ~! O4 k2 p$ ~+ M# ~3 j3 X5 P
功耗
4 s9 P! t6 R# ?: t: s7 P制程偏移(process variation)
& g6 E. R9 [# h) W% a1. 软错误
# F% R" a% K# P4 V+ v软错误是指,外界环境(比如宇宙高能粒子)对于IC干扰,可能造成bit位的翻转,进而可能影响系统的正确性,是一种瞬时性故障。
7 y, {0 v7 B9 ]
. H$ j' `. X! `3 l4 h4 ]$ n+ l* P; U) c6 \
2. 温度
( Z8 T$ M) C+ O: m高温涉及很多硬件故障过程。比如,高温会加剧电子迁移效应,进而导致设备损耗乃至永久性故障。% ]& {0 n, X$ b3 q3 y6 U, z% [
高温会提高电荷载流子的浓度,增加IC的阈下泄漏功耗。5 W- q0 Q* X. _* i: W" L" [6 Z
高温会降低电荷载流子的移动活性,从而可能降低晶体管和互联性能;同时,降低阈值电压,从而可能提高晶体管性能。) A% W% |8 | |* E* \" [ Q
3. 功耗; i. h5 j( u7 b5 Z
功耗分成动态功耗(dynamic power)与泄露功耗(leakage power)。这两类功耗是许多设计挑战的根源。
8 C2 k' A" M; Q6 ]% F1 ]# d
0 i' k" O }3 r% {* H0 q8 P3 {: B3 q5 ?' P4 x% u
功耗过高,会导致电流密度(current density)上升,加剧电子迁移效应,进而导致设备损耗乃至永久性故障。 -6 S* r" c2 a% o2 V# l
动态功耗的急剧变化,会触发供能网络上分布的电感和电容,进而引起瞬时性的电压波动。 电压波动导致的dI/dt效应,会改变逻辑组合电路的路径延时,破坏时序约束,从而导致瞬时性故障(或者造成降低处理器频率的压力)。, T/ W; I0 g, N
功耗会产生热量,造成IC温度升高,进而影响IC可靠性。当然,IC的温度取决于功耗的时空分布状况、冷却方案以及组装(packaging)等多种因素。0 j# m1 w8 c7 Y; ]1 E% S
4. 制程偏移
1 Z. I9 }, m7 |$ {# M可能导致关键时序路径的改变,进而影响瞬时性故障率。
- {, e e; z: g& E! J可能导致线路以及氧化层的大量参数的改变,进而影响永久性故障率。
: S6 [. m }, H2 L可能导致掺杂物含量的改变,进而影响泄露功耗。
w: b' o- a, P6 _& `8 X影响动态功耗。
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