|
EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
1、简介
3 l' n1 B) L; `+ r2 N随着电子产品的高密度化及电子制造的无铅化,PCB及PCBA产品的技术水平、质量要求也面临严峻的挑战,PCB的设计与生产加工及组装过程中需要更严格的工艺与原材料的控制。目前由于尚处于技术和工艺的转型期,客户对PCB制程及组装的认识尚有较大差异,于是类似漏电、开路(线路、孔)、焊接不良、爆板分层之类的失效常常发生,常引起供应商与用户间的质量责任纠纷,为此导致了严重的经济损失。通过对PCB及PCBA的失效现象进行失效分析,通过一系列分析验证,找出失效原因,挖掘失效机理,对提高产品质量,改进生产工艺,仲裁失效事故有重要意义。
1 l: K V3 Q, i* s, K$ Y5 Q! U: A- F2 T* ~
. ]1 G$ E& ?! `, k' B- C2、服务对象; ]) _5 \0 Y# N; i1 x$ }% ?
印制板及其组件(PCB&PCBA)是电子产品的核心部件, PCB&PCBA可靠性直接决定了电子产品的可靠性。为了保证和提高电子产品的质量和可靠性,对失效进行全面的理化分析,确认失效的内在机理,从而有针对性地提出改善措施。
/ y5 ?6 K/ c5 e. n! w7 f: E$ a$ ~. b( T/ f
+ W9 h" m7 t& S7 \4 f8 J3、失效分析意义
$ l' ?' y- I& T( o7 w& A' n1 T1. 帮助生产商了解产品质量状况,对工艺现状分析及评价,优化改进产品研发方案及生产工艺;
- a. c3 h% N& W$ \2. 查明电子组装中失效根本原因,提供有效的电子组装现场工艺改进方案,降低生产成本;
/ N4 ]) U4 f; A; Q& x7 Y3. 提高产品合格率及使用可靠性,降低维护成本,提升企业品牌竞争力;+ U; Y1 h+ Q2 ^& {, m. x4 s
4. 明确引起产品失效的责任方,为司法仲裁提供依据。
8 m3 c9 R: x' [+ r
8 v: P* @$ z4 m0 ^ S8 i, ~8 e" p( ]/ I* q8 @8 I* Z( A3 H
分析过的PCB/PCBA种类:+ e! `2 I6 n( Y) h
刚性印制板、挠性印制板、刚挠结合板、金属基板
# C& ]: E! V- L; ^# c通讯类PCBA、照明类PCBA9 p0 f. `- y: l& q
( I( {7 @; [- P# `7 U! m# T
0 y8 C* c. v* M* C4、主要针对失效模式(但不限于)
0 f- @5 w9 v! l z5 V爆板/分层/起泡/表面污染
& @7 S! D0 b" _8 P" J开路、短路
; M. Q1 |* j* w0 Y! p焊接不良:焊盘上锡不良、引脚上锡不良
, \. ?3 d: H# b( y$ W$ D腐蚀迁移:电化学迁移、CAF
@3 U: M1 D/ q; k# Y+ Z8 Z
" c+ n) n7 K# D7 {
5 N5 q% ^9 t3 \+ I. O0 d5、常用失效分析技术手段( Y; \! Y: r0 \/ W x% L
成分分析:
7 l7 U7 U8 B. g2 a显微红外分析(Micro-FTIR)
* w6 G9 ^6 v# l- a% y+ S- Q0 ^扫描电子显微镜及能谱分析(SEM/EDS)3 d% I8 M# W" i1 \1 s
俄歇电子能谱(AES)6 ]( ~ W/ G7 Y6 C5 R* u
飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)9 k! K7 _! [1 W+ c9 x
热分析技术:
6 S/ X1 q `8 a差示扫描量热法(DSC)' t* E/ w0 D2 L+ c. G+ C( t
热机械分析(TMA)
K3 a7 U- Z1 R: C# k6 B6 E" E热重分析(TGA)8 A }& D; C1 o/ {9 C k
动态热机械分析(DMA)3 t) v( {( l, I9 @7 l7 a
导热系数(稳态热流法、激光闪射法)
( M, F2 x, U, @7 {( `离子清洁度测试:
5 q6 B' B! M/ o Z1 lNaCl当量法- f' B" r; F2 o$ ~" }& X6 d
阴阳离子浓度测试- q: O" o) ]9 L4 t
应力应变测量与分析:
6 G2 O5 Y" F" \4 Q热变形测试(激光法)
9 R& W. Z, w! [: d. e应力应变片(物理粘贴法)
' M* z Y7 H& k( s. z% A破坏性检测:4 ^. S6 [9 V$ s' P, v, ]
金相分析0 Y& {* b# V0 E8 h& R
染色及渗透检测6 e' w, v. [3 _# J
聚焦离子束分析(FIB)5 t9 s5 o3 o* M- N: A$ G
离子研磨(CP)) B9 @, F/ r3 ?# Z7 y, I
无损分析技术:# \. n, R ^4 D" T1 A8 r0 Y
X射线无损分析3 {' a& B1 R* v1 i, s9 O! R
电性能测试与分析2 `$ h8 O2 R3 _1 D l) h5 B
扫描声学显微镜(C-SAM); C& @+ M t _+ q7 S
热点侦测与定位
& N7 H9 [ a( G9 ]! A j失效复现/验证) x+ \& V. [/ n; x
5 c" F; `% q2 A+ i- G8 L! ^* S
4 Y5 I& K9 V) v& z( A6 t
1 }+ t* _7 m- w9 c6 Z+ c( y |
|