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浅析混合集成电路的失效

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    发表于 2021-4-30 11:11 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    x
    4 I2 V$ ~7 ~4 `; d( ]1 ~. ]0 v& E
    混合集成电路工艺:: A7 Q& E* v) n* L( l
    9 e$ j, h+ k8 F/ t/ _; h7 C

    ' o- D+ m; ?7 X4 `' z7 A  vIC 工艺:氧化、扩散、镀膜、光刻等
    4 X" ~1 ~  `+ u! i# i/ K5 V5 R2 W/ s6 x4 F+ \

    & ]7 {6 X$ [2 t, ~/ B6 [$ ?) J- N$ o厚膜工艺:基板加工、制版、丝网印刷、烧结、激光调阻、分离元器件组装等4 t) @' `# T5 L; t. |; d6 W4 i
    5 \6 {* n3 u6 m/ V) }
    * q# {8 K& b' t/ V
    薄膜工艺:基板加工、制版、薄膜制备、光刻、电镀等
    2 ^$ s! g8 N' [3 u9 E
    / `6 P% b; h- V* t# M9 _. l/ |- O; y1 K- X; e5 R2 k
    失效原因:  z- Q+ a* E6 }6 E" t: l; w  l( O: E
      t8 T; p  ?- r) R; r
    5 ]6 S1 _2 m6 S4 h: Y7 ]3 n
    元器件失效:31%7 l# m% P, d+ _0 c( ]! c
    0 ]! a' x% y" b% `* ?0 q: u5 _
    3 ^* ]/ C- V( p; p; Q( v' \
    互连失效:23%,引线键合失效、芯片粘结不良等, W. B7 I3 Q4 d9 K8 k0 F  _
    3 F; o4 g  g- W- T) h1 s' s' q
    ! j4 p: Q! ^3 n9 K/ {2 f" i' F2 l, p
    沾污失效:21%4 v0 ]6 R( ^7 h  D

    5 U8 a- \% }2 W5 L  A
    . Y; A9 W0 k! h/ d4 m% e关于混合集成电路:
    & m' M" u9 Y/ o# @- K1 R9 N) P( M& n+ k& N6 \2 H5 L1 j, D% M
    0 w1 ?$ B' N9 X# f
    按制作工艺,可将集成电路分为:
    & Y7 g3 L0 G! v$ ]  [- P, O4 N4 T# h6 O1 V

    8 H1 h  x  d/ y( Y& X(1)半导体集成电路(基片:半导体)
    1 l+ D/ X$ a! r' l7 p0 T
    ) g' L' |9 h# z" h' a. a: d$ ~8 d  U3 |6 v9 p# I. m  W* K
    即:单片集成电路(固体电路)
    / i+ r# R! ?) k/ k, ~- p' }2 u- K3 k; v& K& u

    , T' \/ \3 r' W3 }# G工艺:半导体工艺(扩散、氧化、外延等)
    3 j3 f  T6 K4 s9 k1 A5 m: }: D, {1 g: k5 [( S1 ~

    ' ?9 K9 y$ ^. K6 n  S( O7 x8 s(2)膜集成电路(基片:玻璃、陶瓷等绝缘体)
    * K" T/ B0 ~  t/ c: l' F4 x! f
    # q3 W* [+ k6 i; Y# N3 W& f/ v, s2 R1 F/ ~( j* x  b% M# j
    工艺:
    ) ^; E- a7 s4 F. l2 ~4 Y/ @0 C& t  S, _# u  H; V

    % C. T3 n/ D2 q* @* ~薄膜集成电路——真空蒸镀、溅射、化学气相沉积技术0 O  ]: B3 R- Z. {$ K. {8 a

    & m; q" X( Q" R& m& A# F/ |' d( G( |  U, s- f) E
    厚膜集成电路——浆料喷涂在基片上、经烧结而成(丝网印刷技术)4 q: Y4 S  u) t

    ; w; `: c0 i8 t3 v0 W

    该用户从未签到

    2#
    发表于 2021-4-30 13:19 | 只看该作者
    混合集成电路工艺呀
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