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& R0 d3 r6 ?3 P8 L问题点. I4 k t% ]7 v. u
; L( p0 h/ W2 {7 L7 n 产品有8组网口与光口,测试时发现第八组光口与芯片间的信号调试不通,导致光口8调试不通,无法工作,其他7组光口通信正常。- J) j( Q! T3 ~% ~
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1、问题点确认: 3 R/ O6 D, h4 h
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根据客户端提供的信息,确认为L6层光口8与芯片8之间的两条差分阻抗线调试不通;- h2 u5 n; k, L8 e( K" x, N4 _) J
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2、客户提供的叠构与设计要求
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改善措施
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影响阻抗信号因素分析:. p* k( X& L7 t) S; x- \
+ [3 N7 r! U+ Q. ] 线路图分析:客户L56层阻抗设计较为特殊,L6层阻抗参考L5/L7层,L5层阻抗参考L4/L6层,其中L5/L6层互为参考层,中间未做地层屏蔽,光口8与芯片8之间线路较长,L6层与L5层间存在较长的平行信号线(约30%长度)容易造成相互干扰,从而影响了阻抗的精准度,阻抗线的设计屏蔽层不完整,也造成阻抗的不连续性,其他7组部分也有相似问题,但相对较轻微。) }0 r/ v! a0 t5 H
L56层存在特殊设计(均为信号层,存在差分阻抗平行设计、相邻阻抗层间未设计参考地层),客户端未充分考虑相邻层走线存在的干扰,导致调试不通问题。
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与客户沟通对叠层进行优化,将L45、L56、L67层结构进行了调整,介质层厚度分别由20.87mil、6mil、13mil 调整为5.12mil、22.44mil、5.12mil,将而L4、L7间的参考地层间的距离拉近,L56层互为参考且屏蔽不足的线路层距离拉远,减少干扰。
: U6 G" F. f7 _* w4 u优化后的叠层结构:" }. B; x& ?$ v: i: G& E: x
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& O! R- a5 ^1 {+ _5 Q& i% v! k优化后的阻抗匹配: [- X' p% w Q* W2 H, r
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& J( g+ B% u- C4 P: N
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# D$ i$ q1 `" ~6 `% \: n改善效果1 v, i0 e0 M/ I
; i. [6 L' N+ N) K" A9 a/ G 通过调整叠层结构,拉大L56层相邻信号层之间的距离,串扰造成的系统故障问题得到解决。
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