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问题点7 l, q. j. `8 d' P4 b% n$ Q" J9 U9 s
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产品有8组网口与光口,测试时发现第八组光口与芯片间的信号调试不通,导致光口8调试不通,无法工作,其他7组光口通信正常。8 \7 S* d- Q! o- b) V/ s: y
- K" g, ]2 k; r3 }: N* n, ~5 Y1、问题点确认:
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根据客户端提供的信息,确认为L6层光口8与芯片8之间的两条差分阻抗线调试不通;
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4 C' G; b6 ?& l7 l" Z2 t/ S l
X' S6 u1 F/ z# f2、客户提供的叠构与设计要求* ?2 S( \9 X; n
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" T |* Z! A$ [- t; }5 Q! Z" ~改善措施! i4 T) f' `9 a n# w: d
& [; R4 E. v% x9 N 影响阻抗信号因素分析:
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# D$ o$ X8 N: D+ X( p) W 线路图分析:客户L56层阻抗设计较为特殊,L6层阻抗参考L5/L7层,L5层阻抗参考L4/L6层,其中L5/L6层互为参考层,中间未做地层屏蔽,光口8与芯片8之间线路较长,L6层与L5层间存在较长的平行信号线(约30%长度)容易造成相互干扰,从而影响了阻抗的精准度,阻抗线的设计屏蔽层不完整,也造成阻抗的不连续性,其他7组部分也有相似问题,但相对较轻微。( a% w9 O3 Z' G, y* n$ N9 C. g9 S3 A
L56层存在特殊设计(均为信号层,存在差分阻抗平行设计、相邻阻抗层间未设计参考地层),客户端未充分考虑相邻层走线存在的干扰,导致调试不通问题。
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! N o( Y6 q' R& @+ J$ h. T0 _# ] 与客户沟通对叠层进行优化,将L45、L56、L67层结构进行了调整,介质层厚度分别由20.87mil、6mil、13mil 调整为5.12mil、22.44mil、5.12mil,将而L4、L7间的参考地层间的距离拉近,L56层互为参考且屏蔽不足的线路层距离拉远,减少干扰。 I5 a% c6 l" c9 s1 i
优化后的叠层结构:
6 i7 S; f4 d" p( [2 F- y: \9 k0 o2 \3 w( R1 k% @
" y f# v" _1 C3 v% s5 G
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优化后的阻抗匹配:
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" x2 H- Y) N' \ O改善效果
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- I: O1 m3 e; _( H 通过调整叠层结构,拉大L56层相邻信号层之间的距离,串扰造成的系统故障问题得到解决。& f, B/ Y$ g& L, a' @2 u
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