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PCB设计之叠层结构改善案例

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发表于 2021-3-18 14:07 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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& R0 d3 r6 ?3 P8 L问题点. I4 k  t% ]7 v. u

; L( p0 h/ W2 {7 L7 n    产品有8组网口与光口,测试时发现第八组光口与芯片间的信号调试不通,导致光口8调试不通,无法工作,其他7组光口通信正常。- J) j( Q! T3 ~% ~
7 r; X, @& l& |5 N7 C0 L& J; c$ ^
1、问题点确认: 3 R/ O6 D, h4 h
! x7 f' F) K  p3 y7 S3 B" `* b; Q
   根据客户端提供的信息,确认为L6层光口8与芯片8之间的两条差分阻抗线调试不通;- h2 u5 n; k, L8 e( K" x, N4 _) J
  h3 g6 r5 S3 t9 G. H- D2 ~6 `
. H% g% {# d) M+ G8 p$ P

6 z' f& A2 p# R( @' v2 ]9 K; ~/ I4 I; V' s; H% n5 w
2、客户提供的叠构与设计要求
7 S% ?3 Q' p% P5 L# r8 y8 D. F4 X% D9 j/ b
5 S+ u) c" _! h$ p( R
. i& \, b+ O" ~2 e7 S; j
6 I4 K, b2 @5 g0 ^0 y' t
改善措施
" x+ C" Z( h% C$ N: q/ L* X9 \& J4 P5 M% A; ^/ R+ p3 R
    影响阻抗信号因素分析:. p* k( X& L7 t) S; x- \

+ [3 N7 r! U+ Q. ]    线路图分析:客户L56层阻抗设计较为特殊,L6层阻抗参考L5/L7层,L5层阻抗参考L4/L6层,其中L5/L6层互为参考层,中间未做地层屏蔽,光口8与芯片8之间线路较长,L6层与L5层间存在较长的平行信号线(约30%长度)容易造成相互干扰,从而影响了阻抗的精准度,阻抗线的设计屏蔽层不完整,也造成阻抗的不连续性,其他7组部分也有相似问题,但相对较轻微。) }0 r/ v! a0 t5 H
    L56层存在特殊设计(均为信号层,存在差分阻抗平行设计、相邻阻抗层间未设计参考地层),客户端未充分考虑相邻层走线存在的干扰,导致调试不通问题。
: B! H; z: ~1 G* R0 |' O/ L) d8 U* n% F2 M7 _' ~. |& A
* i/ S% X4 \* t% }6 m/ ^

3 E" i  h+ p. V+ ]4 R# T; u$ s
) {. ^, I9 T3 {' a) [, ^, e" f3 R, n9 K' _! a; P7 j

9 }* n; }$ i5 {
  r: H/ ^1 r! Z
( y5 g0 R3 C' f9 i( w0 s3 m" `5 p1 f2 j9 @* J; F; q
    与客户沟通对叠层进行优化,将L45、L56、L67层结构进行了调整,介质层厚度分别由20.87mil、6mil、13mil 调整为5.12mil、22.44mil、5.12mil,将而L4、L7间的参考地层间的距离拉近,L56层互为参考且屏蔽不足的线路层距离拉远,减少干扰。
: U6 G" F. f7 _* w4 u优化后的叠层结构:" }. B; x& ?$ v: i: G& E: x

3 B, y4 `7 B# t2 H' ?7 R
7 G& n1 s* x8 r% R9 w# P- J! {( X
, z/ I9 h1 k' ^, _" Q
& O! R- a5 ^1 {+ _5 Q& i% v! k优化后的阻抗匹配:  [- X' p% w  Q* W2 H, r

% y; [; P! G! |9 E' [1 G: z/ w & J( g+ B% u- C4 P: N

& D) t5 m1 d# u' D. p# Q  M
# D$ i$ q1 `" ~6 `% \: n改善效果1 v, i0 e0 M/ I

; i. [6 L' N+ N) K" A9 a/ G    通过调整叠层结构,拉大L56层相邻信号层之间的距离,串扰造成的系统故障问题得到解决。
9 i: b6 T, V2 h( }, f) q2 i/ K% y
* X9 r% i5 y1 R# }$ x

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发表于 2021-3-18 15:19 | 只看该作者
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