有人熟悉28nm的工艺吗？

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有人熟悉28nm的工艺吗？在此工艺下建议不使用环形，U形，L形的形状，不仅仅是对gate的要求，这是为啥呢，个人感觉可能会是机械应力方面的考虑，但是没有理论依据。而且这个rule在DRC中貌似不check的。请教大神，非常感谢！
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是考虑到poly density 和uniformity 的因素
/ A( r0 d+ E5 g  s" f1 T/ O! H7 h, `4 ^规则形状在做etching时候，yield会更好。