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摘要:设计了用于有机薄膜器件的镀膜自动控制系统;整个自动控制系统以单片机为核心,可分为3个功能模块:人机交互、强弱4 }- Y7 v$ ^7 Z$ w8 t, x. b
电转换,样品处理.人机交互由单片机来实现;强弱电转换由固体继电器来完成;样品处理包括镀膜速率自动控制和样品保护两个部) F( n% w$ F) k4 p2 ?( K& Q: h2 O
分。控制系统体现了弱电控制强电的设计思路,系统采用了单片机、继电器、电磁阀和可调变阻器等器件以及程控可调电阻电路。所
4 o. G2 Q' M F; T9 }5 `0 N; @* q设计的控制系统能克服目前有机薄膜器件镀膜系统的一些弊端,实现镀膜和镀膜速率的自动控制,并且能够避免有机半导体材料在真! u9 J- ~4 y6 t* J* z
空腔内的相互污染。
. |/ d7 ~' X0 e! l7 ]9 q美键词:用于有机薄膜器件的真空镀膜自动控制系统;单片机;固体继电嚣;电磁阀
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引言
8 _ F, g; }0 Q& i! A! K; z有机场薄膜半导体器件是电子信息技术发展的一个重要方) n9 r5 @3 x- R$ [
向,其制备工艺和所使用的材料都很廉价[1],近年来越来越受
- X5 J6 Z+ i7 X d( L- ?$ ^/ ^到人们的重视。他们中最有前景的是有机电致发光二极管) m5 U/ @) ~2 ?: Z' M' j
(OLED)[2]、有机薄膜晶体管(OFET)c3]和有机太阳能电池& Y& ^# D' r) Y' m0 q/ ]/ ]. Y) i
(OPV)H]。真空蒸镀成膜是目前较为普遍的一种有机薄膜半
- l7 e1 T$ v+ c9 p! h8 i) D' ~导体器件制备方法。目前实验室的有机真空镀膜系统自动化程3 P: {& S* J2 K' \( Q
度很低,在一个样品蒸镀完成时候,不能够智能控制样品的交
# _9 S/ O, |8 t( d替镀膜,需要人工来机械切换;不能自动控制薄膜蒸镀速率,
% @, C, W/ ?7 a6 l( @9 w因此较难精确控制膜厚;在一个真空腔内放置了几个蒸发源,8 H Z9 w$ X9 I+ X3 q: X; x
因此在蒸镀一个样品时其他样品也会因此受到污染,这样很难
3 t* s* ?% M3 D( U精确控制膜的纯净度。本文设计了相关方案来解决现有系统的) f# c u& @: R4 }
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