有机薄膜器件的镀膜自动控制系统设计

kajchild

摘要：设计了用于有机薄膜器件的镀膜自动控制系统；整个自动控制系统以单片机为核心，可分为3个功能模块：人机交互、强弱
电转换，样品处理．人机交互由单片机来实现；强弱电转换由固体继电器来完成；样品处理包括镀膜速率自动控制和样品保护两个部
分。控制系统体现了弱电控制强电的设计思路，系统采用了单片机、继电器、电磁阀和可调变阻器等器件以及程控可调电阻电路。所
0 L' t$ W! p) |设计的控制系统能克服目前有机薄膜器件镀膜系统的一些弊端，实现镀膜和镀膜速率的自动控制，并且能够避免有机半导体材料在真
/ i* C3 ^  K  k空腔内的相互污染。
* Q+ x9 }- X; c2 l7 l8 T% |. X4 L美键词：用于有机薄膜器件的真空镀膜自动控制系统；单片机；固体继电嚣；电磁阀
1 U' f! |" \; n' {, i4 LO
( S+ p* Y. G. Y: f1 `6 P引言
有机场薄膜半导体器件是电子信息技术发展的一个重要方
4 D; b! G5 r& e$ t  l+ U1 D向，其制备工艺和所使用的材料都很廉价[1]，近年来越来越受
到人们的重视。他们中最有前景的是有机电致发光二极管
6 t$ q: q: b; P- C(OLED)[2]、有机薄膜晶体管(OFET)c3]和有机太阳能电池
(OPV)H]。真空蒸镀成膜是目前较为普遍的一种有机薄膜半
导体器件制备方法。目前实验室的有机真空镀膜系统自动化程
" p( E+ T3 g3 N' I3 `: m度很低，在一个样品蒸镀完成时候，不能够智能控制样品的交
替镀膜，需要人工来机械切换；不能自动控制薄膜蒸镀速率，
5 l1 L% o7 b- m0 Z因此较难精确控制膜厚；在一个真空腔内放置了几个蒸发源，
+ d4 ~0 `4 b& _因此在蒸镀一个样品时其他样品也会因此受到污染，这样很难
精确控制膜的纯净度。本文设计了相关方案来解决现有系统的


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