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失效分析6 ~5 B& i# l+ L
6 @" P4 N6 S/ @: d7 N; B3 ]" n
失效分析的总章与目录。, q& O; i" ?2 x' ]( e
& C6 n2 n* C; ? i' }
/ D2 l0 @; t. O. _) B8 E失效分析基础
" m3 T( \$ P$ i4 j* I
: o' f! @: Y: @" bl 可靠性工作的目的,失效分析的理论基础、工作思路 n# }* W9 O5 ^9 {- Y
1 m7 q* ]/ ]3 K) M' M
l 术语定义与解释:失效、缺陷、失效分析、失效模式、失效机理、应力……
$ n8 ^2 N0 E% ~) t4 x* f* w/ J; J8 I& n" q8 P
l 失效分析的问题来源、入手点、输出物、相关标准
0 ^# O; p7 e# d/ F" R+ k
3 S: I( C: ^3 u" K1 [1 R6 `4 A- E9 \5 q" [; s3 [7 J
失效分析技术方法:& p% |1 F) n: Q c$ k
: ]1 {3 \: c- _+ Z% MA、失效分析的原则
3 l/ N& V4 P9 d; A0 b+ t' d7 m& U. T+ c& c- G2 m
B、失效分析程序0 j7 Z# c. t' O5 H- P
- l 完整的故障处理流程
- l 整机和板级故障分析技术程序
- l 元器件级失效分析技术程序(工作过程和具体的方法手段介绍)
+ [2 J7 d+ f* X! Q2 w! W
1 [* Q `/ e7 L$ P! g% e8 y6 V o# U& S9 O
C、失效信息收集的方法与具体工作内容
- Y3 o$ k4 |" I6 }! o- l 如何确定失效信息收集的关注点
- l 样品信息需要包括的内容
- l 失效现场外部信息的内容
- l 信息收集表格示例
- l 信息收集为后面技术分析工作贡献的示例
; d/ ?" m, K5 {& {
- ?$ w+ `# [' P: v& j. c
. x8 @5 `/ p& g1 e3 E- J8 ]D、外观检查8 R6 @1 m' B" e$ n& S, i
- l 外观检查应该关注的哪些方面
- l 外观检查发现问题示例
- l 外观检查的仪器设备工具 A5 z$ U, e; f4 o7 u$ C
J( E1 \' s) f4 F, i, |
6 N) `, x; z1 EE、电学测试
9 z3 m9 M S7 t3 J% I% B1 {- l 如何用电测验证失效模式和预判失效机理
- l 电测的具体方法
- l 几种典型电测结果的机理解析
- l 电测时复现间歇性失效现象的示例
- l 在电测中如何利用外部应力与失效机理的关联
- l 电测的常用仪器设备
6 u' S! c1 T/ O0 T. Y % l0 S0 g/ \1 X; A, f' f0 b, W
7 B. F. Z7 j3 V# hF、X-RAY
) r( W# y$ w6 h4 T- @. ] t- l X-RAY的工作原理与设备技术指标
- l 不同材料的不透明度比较
- l X-RAY的用途
- l X-RAY在失效分析中的示例
- l X-RAY的优缺点
- l X-RAY与C-SAM的比较
7 Q0 k+ z+ e7 I
# M5 l: q) s& s& T
6 [5 b: v% G5 O" ?% Z" a7 e8 eG、C-SAM
& h9 ], ]) ?: t ~4 a9 F- l C-SAM的工作原理与设备技术指标
- l C-SAM的特点与用途
- l C-SAM、X-RAY在失效分析中联合应证的使用示例
- l C-SAM的优缺点. |: ^2 i8 V2 c" ~: T7 {6 q5 _
O" d, O5 O% E( U- h6 H% k& e$ I3 s$ T9 M: b8 d
H、密封器件物理分析
/ i5 L; M5 W3 u( T- l PIND介绍
- l 气密性分析介绍
- l 内部气氛分析介绍
- I、开封制样
- l 化学开封的方法、设备、技术要点介绍
- l 化学开封发现器件内部失效点的示例
- l 切片制样的具体方法与步骤
- l 切片制样发现器件和焊点内部失效点的示例" ~& c1 T7 L- B. Q' W
/ J$ D+ L* g8 B2 ]; `: Y8 t- N8 _# R4 S/ d4 Z0 T7 a4 T; A/ E
J、芯片剥层2 `" S, v0 T3 @* m8 i$ |/ Q
- l 化学腐蚀法去除钝化层的具体方法,及其特点与风险
- l 等离子腐蚀去除钝化层的具体方法,及其特点与风险
- l 腐蚀钝化层后样品观察区的形貌示例
- l 去除金属化层的具体方法与示例 R1 \* @) m' {
; [- j7 u g& b: } R6 Y R2 Q
- Y7 | N6 j+ _+ k4 \* D
K、失效定位-SEM0 E J( G E. J1 O$ r1 ]
- l SEM的工作原理与设备特点
- l 光学显微镜与SEM的性能比较
- l 光学显微镜与SEM具体成像区别示例
' S; X* z& u9 Q; h. `0 s: D - {( I7 ~) U. @! v/ t: K( h
( Y; W2 F6 N& O
L、失效定位-成份分析8 @8 v/ c+ a$ Y4 l6 q) \+ }/ A
- l 成份分析中的技术关注点经验
- l EDS、AES、XPS、SIMS、FTIR等成份分析仪器的用法比较
- l 成份分析在器件内部分析中的作用示例
1 Y$ W3 G( m* A) P# y' Q
& ~3 M' J2 o |3 o% I
. ^2 u' F' w$ y4 p: y* a; nM、内部热分析-红外热相
3 o1 o3 o! E6 j E) z* `2 a' s
' ~# y- H- d* o9 o2 X1 o, m- l! UN、内部漏电分析-EMMI
4 }+ W/ c. H6 }$ E- E$ U _* u
" g8 ~* B# {: |) ~$ m4 |O、芯片内部线路验证-FIB' s) j/ _* T% V/ i; m
( J7 K f0 Q# c2 K: {( I
P、综合分析与结论( m6 `) G( ?5 v/ o3 N. C
- l 综合分析中的逻辑思维能力
- l 结论的特点与正确使用9 F. O1 H# q6 _4 u5 L7 z
$ q2 z& i4 p9 X O$ M0 n _3 T( P$ R/ N* h2 Q7 g6 x
Q、验证与改进建议, I7 e6 @. C& F- n
- l 根本原因排查与验证
- l 改进建议及效果跟踪' Q6 K2 f1 {; D. Y- X
1 S# Q9 R$ G8 ?8 M1 f; k6 W- d
: T# d0 T; s7 d( p, Y
& F0 x% s. K T( Z各类失效机理的归纳讲解与相应案例分析:
$ m: ^7 s& ^+ {& p# D" ~; y1 f* I
1、失效分析全过程案例
$ ` [* O; _) X; D+ j3 }% ]: w# l- A、失效信息收集与分析
- B、思路分析
- C、过程方法
- D、逻辑推导
- E、试验手段
- F、综合分析
- G、结论与建议
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+ r! g5 A0 v d% P+ D9 ~5 {9 M& x1 X
, E$ }' K$ d( D- J9 f4 ?2、静电放电失效机理讲解与案例分析3 I5 q( k! w3 e
- A、静电损伤的原理
- B、静电损伤的三种模型讲解
- C、静电损伤的途径
- D、静电放电的失效模式
- E、静电放电的失效机理
- F、静电损害的特点
- G、静电损伤的案例(比较器、单片机、微波器件、发光管、功率管)6 d* N8 |4 o3 z: x8 g. k0 G. M: o: ]
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3、闩锁失效机理讲解与案例分析
& Q0 y* q9 e& u4 I1 V3 ^- X- I- A、闩锁损坏器件的原理
- B、闩锁损坏器件的特征
- C、闩锁损坏器件的案例(开关器件、驱动器件等)
- D、闩锁与端口短路的比较
- E、CMOS电路引起闩锁的外部条件
- F、静电与闩锁的保护设计0 [( E* ?7 {9 b' E2 }$ s
# C/ l4 W9 b" F! `# b# e6 K8 f W; a. J' c, g$ h, O1 {3 b b5 G
4、过电失效类失效机理讲解与案例分析
) ?) C6 S4 I# l5 L, Q! v- A、过电的类型及特点(浪涌、过电压、过电流、过功率等)
- B、对应不同类型的过电的失效案例
2 ^6 M/ |3 U$ g ' O4 I+ n2 r4 N9 n8 _6 B
* F8 q& }4 d2 p8 y! y& ?2 t; I( ~5、机械应力类失效机理讲解与案例分析2 v0 g7 [ [6 m' j
- A、机械应力常见的损伤类型+ M- h" E+ I A' N% L! s: }( Y* `: X5 e
9 m: {0 ~* t4 Z. g; ~0 z$ c
5 s* }% F% d- b9 n
6、热变应力类失效机理讲解与案例分析) Y6 X. l2 r) \& p& y$ F% q) }
- A、热变应力损伤的类型和特征
" y2 q3 l! t7 W
$ p; f. ^ u B9 }( T( s- X) ^
2 w3 v, N7 V' e6 j) ~% \5 ?7、结构缺陷类失效机理讲解与案例分析
* Y" Z9 G2 s0 S! p$ [! T1 z- A、热结构缺陷的类型和特征
- B、发现缺陷的技术手段9 j% L' k; N( z7 F8 s4 U
) N; N% F y5 T( R: l4 z% X
/ E5 n" B3 Z- n! H8、材料缺陷类失效机理讲解与案例分析
/ a. H, o4 F1 {6 K- A、绕线材料缺陷
- B、钝化材料缺陷
- C、引线材料缺陷
- D、簧片材料缺陷
) _4 ?! Y, T( A
$ }4 i5 H5 ]( z4 y2 G) T, ~
6 S( D) R; N0 [6 q9、工艺缺陷类失效机理讲解与案例分析
+ N$ {5 g0 f; m: Q' p; z% Q5 H" s& ~- A、工艺缺陷的类型和主要特征,发现手段
$ C: ^5 X6 V e, E! F # `0 h, Q Y& p Q9 g3 u! ]
" l* Q" G9 V0 @3 I10、应用设计缺陷类失效机理讲解与案例分析
5 z2 L& Z1 R' a$ G. c+ H; S/ F7 m( K$ u+ S2 H& k f% J1 e$ ?
11、污染腐蚀类失效机理讲解与案例分析* q3 m% m5 y9 N$ t: Q1 n
- A、污染的来源与类型,腐蚀的主要原理
4 D0 S: Q/ m* Z6 e
3 w# Y% B9 @) q7 `' c/ |/ v& ?% g# d% s' H% z+ c( ~
12、元器件固有机理类失效机理讲解与案例分析: i3 O2 f: e6 c4 Y, l9 q3 x5 c
- A、不同类型的元器件固有失效机理的归纳) b4 Q/ H! }' B; L1 A
" l: u4 h/ B" e) @6 U
8 R" y {# f3 ~5 C( E13、面目全非的样品的分析9 T, G; g( k2 P4 m0 S- {
9 x6 w/ S' H( n4 I9 l& Y来自于—工业和信息化部电子工业标准化研究院
Q; b$ [( B3 g* i; f
) l$ ^4 k' B' O1 Q+ _9 q' h3 U《电子产品及元器件失效分析技术与经典案例解析》专题研讨
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