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高性能高可靠性倒装芯片的互连新技术

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发表于 2019-4-2 08:40 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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: s9 H& p4 C. D( F" D+ R" e 高性能高可靠性倒装芯片的互连新技术.pdf (1.73 MB, 下载次数: 8) 3 P0 E2 |* \9 `. s
电子器件的市场趋势
7 U/ s; N) s- j0 G! |: Y; T6 w3 }当前,电器和移动AV设备市场上,智能手机和平板PC成长迅猛。智能手机的全球销量从2012年的6.5亿部7 A: |8 p) W7 S  O
增加到2013年的7.9亿部。预计2015年将达到10亿部。类似地,PC的全球销量从2011年的1.2亿台增加到* D/ ~1 g) o6 ~4 y! u& U& G
2013年的1.6亿台。预计2017年将达到4.2亿台。这些移动设备要求一年比一年更高的性能、更多的功能和
8 D: R$ D" ]1 H2 Q7 s1 ~$ `7 B更低的价格。所以,用在CPU、GPU、DSP、AP和RF中的半导体产品规模更大,速度更高、更加密集。
8 M# ^4 `7 T9 w2 q0 T$ h1 |3 o为此晶圆工艺技术正通过加大晶圆尺寸(即从150mm扩大到300mm或400mm)减少成本,并通过更细的
( g6 \# H) E3 N& G3 e工艺图形(即从90nm到65nm、45nm、40nm、32nm和28nm)改善至更高的集成度、功能性和速度。故' q0 I5 ~8 s' L# ^
与此同时要求更高的电路密度、更高的性能和更低的价格。% f% N/ }# z7 t7 Q6 J/ g
对于集成度较大和速度较高的LSI的成熟技术,有必要开发采用低k材料的隔离技术。但为了满足这些高性
2 p3 f# K% P# l7 C# j% n* i. @4 |& J能,由于用多孔和多层结构,隔离变得越来越薄。结果,LSI就变得易脆。另一方面,为了满足高速要求,  F! j# q* o) d& K
LSI的电流不断增加。除了芯片尺寸不断缩小外,热密度和功耗也不断增加。所以,对于未来的半导体封
! o' U( f7 V) l装,要求解决这些问题,即层间介质的易脆性、高热、高速和低价格。半导体工艺未来的设计规则将进入
. a5 W2 l5 L' O% r2 Y20nm一代或其下,这将更加脆弱得多。  X" X% G. K/ y, I1 n- G$ U, M* H
20nm一代要求的封装技术
" W5 q8 v( K7 v# j9 v8 b下一代20nm要求的规范为:) V# k5 @- \! l. b9 r
低应力,为了易脆低k层% a% {  ^* N4 j# \1 K
高热辐射≥5W,为了高性能LSI
$ T% Y. r- j( y高速度≥10GHz,为了高功能性  3 Y1 E3 v- {3 t9 K

" n% e% |. C2 @) W* R2 d) X+ B# v7 Q3 f

该用户从未签到

2#
发表于 2019-4-2 08:48 | 只看该作者
这个材料用来写文章还不错

该用户从未签到

4#
发表于 2019-4-25 16:15 | 只看该作者
先学习学习
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