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[Ansys仿真] 关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness

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1#
发表于 2015-4-1 14:48 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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关于siwave里仿真那个表面粗糙度suface roughness,设置值多少才正确,仿真了2个比较,差别不大。

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2#
发表于 2015-4-1 15:00 | 只看该作者
那玩意只是个摆设吧。6 K$ G$ Q9 A( p* H3 ]6 H; {+ F

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3#
发表于 2015-4-1 15:34 | 只看该作者
这个要看你使用的是什么样的铜箔,有的是1um多,有的是2um多,也有的4um多。。。。。。

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4#
发表于 2015-4-1 15:39 | 只看该作者
Hammerstad model
* _- @1 E! [4 u: p则设置为1 microns rms top and bottom,大部分PCB厂商目前的约为4microns peak to peak surface roughness
# m& y* o6 H. U9 h, J! ]Huray model
+ T: U2 y8 ]4 Z半径建议设置成0.5 microns  6~8 ratio ,原因同上。你也可以把半径设小,ratio设大来满足精度,但是相应的复杂设计仿真时间会大大增加。

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5#
发表于 2015-4-1 15:40 | 只看该作者
差别主要在损耗上

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6#
发表于 2015-4-2 09:22 | 只看该作者
学习下,留个爪

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7#
发表于 2015-4-2 09:30 | 只看该作者
SIwave仿真粗糙度有点扯,虚假的功能,别那么认真

点评

你好,请问有什么工具仿真粗糙度比较靠谱呢?  详情 回复 发表于 2016-2-18 10:14
多谢版主。  详情 回复 发表于 2015-4-3 13:32

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8#
 楼主| 发表于 2015-4-3 13:32 | 只看该作者
Xuxingfu 发表于 2015-4-2 09:309 s+ T9 y# c  s7 V! n
SIwave仿真粗糙度有点扯,虚假的功能,别那么认真

" e! j1 E$ `3 Q' Z多谢版主。1 X& W$ Q) z  F$ b) \" V. h7 B

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9#
发表于 2016-2-18 10:14 | 只看该作者
Xuxingfu 发表于 2015-4-2 09:30
7 N, A4 w' z. J$ v  c9 j; \SIwave仿真粗糙度有点扯,虚假的功能,别那么认真

$ q% a" ?& F; ]. {# v. R5 F3 m% {你好,请问有什么工具仿真粗糙度比较靠谱呢?
5 Q1 T& D) k" O

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10#
发表于 2016-2-18 17:50 | 只看该作者
考虑粗糙度的影响和不考虑粗糙度的影响相差还是比较大的
& j' _9 X+ F7 G但是考虑了粗糙度之后,是将粗糙度设置为1um或是设置为1.5um,这个差距就不那么大了
; ^2 X6 W2 l, p5 D
( E/ n" X0 N# U- A2 N6 V所以,需要考虑粗糙度,然后将粗糙度设置为一个一般的值就可以
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