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失效分析从何入手?

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发表于 2023-6-16 10:37 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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本帖最后由 Heaven_1 于 2023-6-16 16:09 编辑
" y" ~% l8 p/ L+ p# N  a, F! n9 S3 B2 `

# `: |. T3 f2 I+ }" ]) \失效分析从何入手?
# G" {4 W/ p& g: O  l- D; A北软芯片失效分析实验室9 v, |  G2 E! i; o7 o5 v- D% q
失效分析是为了查找失效原因,因为分析的某些步骤是破坏性的,不能重现,所以失效分析必须有计划有步骤地进行。为了防止在失效分析过程中把真正的失效因素或迹象遗漏掉,或引入新的失效因素,失效分析不仅需要十分小心地操作,而且还必须周密而科学地计划与安排,使每一步都能取得必要的信息。
: L% S2 _* s# G4 Y4 F- w5 e失效分析程序的基本原则
  v; [. L: T" _1 t3 a9 ~3 [先调查、了解与失效有关的情况(器件类型、应用时应力条件、失效现象等),后分析失效器件。
- B$ f) L6 D, O) _先做外部分析,后做内部(解剖)分析。4 c& I3 v- R; C+ y) c: y: W, y
先做非破坏性分析,后做破坏性分析。0 @/ u9 U5 L, k* \8 j/ l' n
一、开封前
9 U; h# x4 D6 p  g+ h; r1. 对失效器件本身(线路、结构、版图、工艺、性能、材料等)应作全面了解。5 g8 h6 P0 A6 k, g  f7 v: F
2. 失效情况的调查* m+ k, ]# u# I
失效器件类型、外壳、封装类型、生产厂、生产日期和批号;! {; h( }* w( R( a
使用单位,使用器件的设备名称、台号、失效部位,累计运行时间,器件在设备中的功能;: j* [$ h7 r$ c( U' r; P
失效时的环境(调试、运行、高温、振动、冲击、验收成现场使用),失效时间,失效现象(开路、短路、无功能、参数变化、判别标准等),失效判断人。
  K( \7 c& n. Q* b3. 复测电特性,验证失效情况。所得结果是否与所报告的失效情况相符;不符时要考虑是否器件特性改变;是时好时坏的问题,还是原来数据有误;
& |6 h  w  X6 ]7 l% m4. 初步电测试。又分功能测试和非功能测试,前者对全部电参数进行测试,后者为脚与脚之间的测试。并与同类正常器件比较由差别估计失效的部位与原因。( ]: f3 Y( q0 L1 l
5. 外观镜检。目检或在至少放大30倍的显微镜下进行。内容包括外引线、电镀层、锡焊等,有无机械损伤,腐蚀,标记完整性如何等。对任何异常情况,应进行拍照记录。, i' }' x: I9 p8 O1 Z& v7 M
6. 对管壳进行密封性检查,是否存在漏气。
: @  q4 @6 W8 @- B7. 必要时进行X射线照相,以检查器件结构是否正常,有无多余物存在,也可进行管壳内水汽含量分析,判别失效是否与水汽有关。
/ q" U9 U2 J- l6 w1 ^* J8. 失效模式的分类与统计。1 H; u9 ^8 ^* H3 i
二、开封后# J% g& ]( L! B. h  R6 Q( W, m
1. 内部镜检:
, A% V5 v! |. F% o3 p: [7 h( N楔形键合第一点尾部的开裂
3 q* Q" z5 ~( t% g7 ~, o8 ^1 E7 B- Y用立体显微镜或高倍显微镜检查芯片,确认内部材料、设计、结构、工艺上是否有误用、缺陷、或异常情况,是否有烧毁、腐蚀迹象,键合丝的形状、尺寸、位置是否正确,芯片有无裂纹、外来异物,颜色是否正常,铝条是否有电迁移、发黑、长毛、出现象紫斑等现象。特别要观察失效部位的形状、尺寸、大小、颜色、结构等。必要时要进行拍照记录。
0 e( K6 N0 V4 G0 ~. N4 G$ C2. 电学测试:
  w7 R+ k3 H/ C8 z" Y: f, R& ?与开封前测试结果加以比较,是否有改变,管壳内是否有水汽的影响。进一步可将表面氧化层、铝条去掉,用机械探针扎在有关节点上进行静态(动态)测试、判断被隔离部分是否性能正常,分析失效原因。
2 C1 g2 K5 x# W" i4 [" K各涂层或薄膜可用不同方法去除
' H7 ?1 u# G9 l) k0 M& Z芯片表面涂层可用化学法腐蚀去除。 3 ~, f" U8 r: ?) e* x
钝化层可用氟等离子体刻蚀,对SiO2及PSG层也可用稀氢氟酸(加少量氟化铵)腐蚀;Si3N4用氟化铵:醋酸:去离子水=1:1:1(体积)混合液腐蚀;聚酰亚铵用发烟硝酸腐蚀;对多晶硅用1mlHF十26ml HNO3十33m1CH2COOH混合液腐蚀。
$ D1 U8 ~7 w2 N, ~" A# D铝层用激光束切断,或用稀硫酸(或盐酸)溶去。
2 B6 K. u9 q. |0 [. F3. 断面观察1 t$ g/ a) N4 K7 k6 T
Al-Au 金属间化合物形貌
5 I3 l' ~  [; d8 f+ [$ S9 R对失效可疑部位如PN结、芯片断面、管壳封接处等,可取下相关部分浇入石腊或塑料中,制成磨片。对磨片经过研磨、抛光、腐蚀及染色等步骤,将观察目标暴露出来,在显微镜下观察、拍照。
) Q2 Z5 Y+ Q7 d, j9 ]' x6 f4. 必要时进行微区表面分析。1 [2 o% r/ U: f9 G0 H2 K& j! ?" q
三、军标GJB-548A/ N9 Y! `/ T5 ~* N# A$ O
我国军标GJB-548A中方法5003中具体规定了失效分析程序,可以参考。
. z4 U5 A0 g0 G0 ~; X0 I9 m2 m

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该用户从未签到

2#
发表于 2023-6-16 16:08 | 只看该作者
所有的试验都有标准,
8 \  Y0 ~$ B6 K2 a1 c# Q& y标准里面考虑的很全面,照着做就是进步
  • TA的每日心情
    无聊
    2021-7-7 15:01
  • 签到天数: 11 天

    [LV.3]偶尔看看II

    3#
    发表于 2023-6-17 08:30 | 只看该作者
    设计这些实验,与实际PCB测试过程进行对接,也是件复杂的工程。
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