扫描电子显微镜SEM应用

半导体实验室

扫描电子显微镜SEM应用范围：
* V- x8 E% @( R9 C/ Y1 D3 x' ~1、材料表面形貌分析，微区形貌观察
* Q( r3 B6 c$ P- P" I/ C  b: z( Y2、各种材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析
- q, ?. O! P# R3、各种薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析
扫描电子显微镜样品制备比透射电镜样品制备简单，不需要包埋和切片。
样品要求：
样品必须是固体；满足无毒，无放射性，无污染，无磁，无水，成分稳定要求。
% S, W  x$ X- \* k' e. c" N0 d制备原则：
8 r1 ~% f1 ~" N  x0 r表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干；
新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态；
( x. u2 T) Y- h: K要侵蚀的试样表面或断口应清洗干净并烘干；
磁性样品预先去磁；
试样大小要适合仪器专用样品座尺寸。
常用方法：
块状样品
+ i$ ]" [& v: c" F9 V+ w; I4 e1 t块状导电材料：无需制样，用导电胶把试样粘结在样品座上，直接观察。
块状非导电（或导电性能差）材料：先使用镀膜法处理样品，以避免电荷累积，影响图像质量。
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