日本若扩大限制名单，将威胁三星EUV工程

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日本可能增加的限制品项包含集成电路（IC）、电源管理IC（PMIC）、光刻设备、离子注入机、晶圆、光罩基底等。如果日本增加出口限制项目，新增的项目也得取得个别许可，需耗费90天左右的审查时间。
值得注意的是，除EUV制程用的光刻胶没有其他替代品，日本企业在晶圆、光罩基底市场中，市占率非常高。光罩基底是曝光工程中光掩模的原料，在半导体微细化工程中极具重要性。业界认为，三星电子主力的EUV工程属于微细工程的新一代技术，韩国生产的光罩基底仍无法取代日本制的产品。

5 u, w+ n& v) lNH投资证券研究员都贤宇（音译）分析，EUV工程用的光罩基底目前由豪雅（HOYA）独家生产，韩国企业S-Tech虽然也有生产光罩基底，但技术力仍有些不足。都贤宇指出，目前EUV工程中的原料，只有光刻胶被限制出口，但EUV工程尚未进入量产阶段。这也代表，即使原料中断供应，短期也只会影响示范生产线，问题是，华城的EUV生产线将于明年1月进入量产。

业界相关人士认为，三星电子核心产业之一是系统半导体，EUV则是引领该产业的技术，若日韩关系持续恶化，韩国半导体的未来堪忧。除此之外，台积电、英特尔等竞争企业也在积极发展EUV工程，外界担忧，情况若恶化，三星电子恐怕要让出业界领头羊的位置。
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