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高密度PCB设计的DFM规则

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发表于 2022-1-12 13:56 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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8 O! F% f. J% x$ ^9 C高密度PCB设计遵循在集成电路中看到的相同趋势,在集成电路中,更多功能封装在更小的空间中。这些板上较小的间距使精确制造变得更加困难,这对您的高密度PCB设计提出了重要的DFM规则。
4 m7 \1 K( H5 m( J6 _. b* E) Q: ^& h
8 l6 Z1 e  X4 z% A! i+ {现在,借助A-SAP™工艺,您可以将走线宽度和间距减小至1 mil,从而可以从极细间距的BGA进行紧密的逃生布线。通过专注于减小走线宽度和间距,该过程可以去除堆叠中的一些内部层,从而抵消了该过程的总体成本。. J: j* e1 k* x' O, D; \

7 y- s( {( ~& u. Z
  e4 |1 r. o. U% I1 E采用紧密的BGA布线,PCB设计的复杂性会迅速增加。A-SAP™流程会重置该技术曲线。想象一下一个12层设计,需要三个连续的层压循环,使用3 mil的线宽和间距。这种设计是复杂且昂贵的。每个层压周期都会显着增加成本并降低产量。现在,重新想象一下,以一百万密耳的行距和间距进行布线的能力。可以用A-SAP™层替换这12层中的4层,仅此更改就消除了原来的12层中的4层,也许更令人兴奋的是,现在可以通过单个层压工艺构建PCB。这大大降低了该设计的复杂性和成本。. _, _" [% R! ?- V# g' G( |2 A

) ^# |9 h/ e1 n# d' t1 u一毫米走线和空间布线的能力也会对空间,重量和包装产生重大影响,当我们努力将越来越复杂的电子设备装在越来越小的封装中时,许多应用都在为之奋斗。PCB的整体长度和宽度可以减小。可以减少所需层的数量,这又减少了整体厚度和重量。在许多情况下,整体大小和层数都可以减少。从另一个角度来看这也很有趣。使用一百万密耳的线和空间,可以在现有的占地面积上添加哪些其他电子功能?/ ^/ h! b7 U/ k+ ~& H
2 b& `2 P! u4 H& K
传统上,使用减法蚀刻工艺在刚性PCB,柔性电路和刚性-柔性结构上创建电路图案。该过程从覆铜层压板开始,并通过一系列过程步骤,从该面板上蚀刻掉所有不必要的铜,从而留下所需的电路图案。通常,此过程仅限于三百万密耳的行和空间。, ^) d5 X! a/ x0 c" g1 P
8 @9 D4 |$ R+ q" b6 d' k8 T; {3 b4 z
A-SAP™工艺始于从基础电介质材料中完全蚀刻掉铜。电介质涂有LMI™,通过化学镀铜处理,通过成像处理和通过电解铜处理,以形成所需的电路图案。因为这是加性的,所以特征尺寸可能比减法蚀刻小得多,并且由于消除了蚀刻过程的梯形效应,因此提高了RF性能。$ [$ l; |9 A) f4 ~7 f- J
/ @' k, [2 [6 n2 Q0 s
创建电路图案后,将以与当前处理典型PCB层相同的方式处理PCB层。A-SAP™工艺与已经用于减法蚀刻制造的成像和化学工艺相集成,从而降低了将工艺引入内部的资本支出要求。清洁度和处理变得更加关键,实施此工艺的PCB制造商评论说,这两个方面的改进有助于整体良率的提高,包括采用减性蚀刻工艺构建的层。
( q) _. e4 N  G# P* F; x0 G0 \  A, ~1 E6 o9 c2 `
目前,尚无针对A-SAP™流程的标准设计规则,制造商正在倡导采用协作方法进行设计。早期的设计已经涵盖了全部范围,从简单的单层设计(具有2 mil线和1 mil的空间)到复杂的,堆叠的微孔,多层层压设计(在混合材料上),都增加了100 mil的线和空间的复杂性。已经很困难的构建。正在做一些工作,以帮助采用最佳实践以最佳方式布线小间距零件。与任何新技术一样,制造过程和可制造性设计也存在学习曲线。这是一个更具创造性的思考的机会,可以确定一百万迹线和空间的可能性和应用。
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& }  V+ l* W1 X5 J# |虽然将迹线宽度和间距减小到1 mil有一些好处,但对于高密度PCB设计,还有一些未解决的DFM问题。尽管BGA逃逸布线更容易,但HDI板仍存在新的设计问题。

该用户从未签到

2#
发表于 2022-1-12 14:41 | 只看该作者
BGA布线太紧密,设计会更复杂
  • TA的每日心情
    开心
    2025-7-17 15:25
  • 签到天数: 1130 天

    [LV.10]以坛为家III

    3#
    发表于 2022-1-12 15:38 | 只看该作者
    Excellent professional precious datas !!!  Thanks for your sharing !!!

    该用户从未签到

    4#
    发表于 2022-1-28 17:17 | 只看该作者
    高精密集成电路有着相同的趋势. g. d& ~0 l- R6 n4 w
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