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晶振为什么不能放置在PCB边缘?

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发表于 2021-12-16 11:11 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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晶振在布局时,一般是不能放置在PCB边缘的,今天以一个实际案例讲解。

某行车记录仪,测试的时候要加一个外接适配器,在机器上电运行测试时发现超标,具体频点是84MHz、144MHz、168MHz,需要分析其辐射超标产生的原因,并给出相应的对策,辐射测试数据如下:


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图1:辐射测试数据

01辐射源头分析

该产品只有一块PCB,板子上有一个12MHz的晶体。其中超标频点恰好都是12MHz的倍频,而分析该机器容易EMI辐射超标的屏和摄像头,发现LCD-CLK是33MHz,而摄像头MCLK是24MHz。

通过排除法,发现去掉摄像头后,超标点依然存在,而通过屏蔽12MHz晶体,超标点有降低,由此判断144MHz超标点与晶体有关,PCB布局如下:


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图2:PCB布局图

02辐射产生原理

从PCB布局可以看出,12MHz的晶体正好布置在了PCB边缘,当产品放置于辐射发射的测试环境中时,被测产品的高速器件与实验室中参考地会形成一定的容性耦合,产生寄生电容,导致出现共模辐射,寄生电容越大,共模辐射越强;而寄生电容实质就是晶体与参考地之间的电场分布,当两者之间电压恒定时,两者之间电场分布越多,两者之间电场强度就越大,寄生电容也会越大,晶体在PCB边缘与在PCB中间时电场分布如下:


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图3:PCB边缘的晶振与参考接地板之间的电场分布示意图

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图4:PCB中间的晶振与参考接地板之间的电场分布示意图

从图中可以看出,当晶振布置在PCB中间,或离PCB边缘较远时,由于PCB中工作地(GND)平面的存在,使大部分的电场控制在晶振与工作地之间,即在PCB内部,分布到参考接地板的电场大大减小,导致辐射发射就降低了。

03处理措施

将晶振内移,使其离PCB边缘至少1cm以上的距离,并在PCB表层离晶振1cm的范围内敷铜,同时把表层的铜通过过孔与PCB地平面相连。经过修改后的测试结果频谱图如下,从图可以看出,辐射发射有了明显改善。

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04思考与启示

高速的印制线或器件与参考接地板之间的容性耦合,会产生EMI问题,敏感印制线或器件布置在PCB边缘会产生抗扰度问题。

如果设计中由于其他一些原因一定要布置在PCB边缘,那么可以在印制线边上再布一根工作地线,并多增加过孔将此工作地线与工作地平面相连。


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    2022-1-24 15:10
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    [LV.1]初来乍到

    2#
    发表于 2021-12-16 13:15 | 只看该作者
    晶振底层挖空处理可减小寄生电容
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    开心
    2022-1-29 15:04
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    [LV.1]初来乍到

    3#
    发表于 2021-12-16 13:54 | 只看该作者
    晶振放在pcb内部电场减小,辐射发射也就降低了
    头像被屏蔽
  • TA的每日心情
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    2025-1-23 15:05
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    [LV.4]偶尔看看III

    4#
    发表于 2021-12-16 14:17 | 只看该作者
    提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽

    该用户从未签到

    5#
    发表于 2021-12-22 18:36 | 只看该作者
    放在边缘有干扰
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