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IMC生长发育不完全、表面呈橘皮状、坍塌高度不足,是^BGA、CSP冷焊
5 [. F/ e1 E: w( w! X7 T: n焊点具有的三个最典型的特征,这些特征通常可以作为^BGA、CSP冷焊焊点的 2 `- z8 ?5 L9 G+ j6 \
判据。 1 N) G- e# r" s* m2 \
1)再流焊接中IMC生长发育不完全(前面已经进行了分析和介绍,此处不再重
- n& \0 G) a# x- B复)
" ~( E% a" U5 u; E
2)表面橘皮状和坍塌高度不足 ^BGA、CSP冷焊点表面呈橘皮状、坍塌高度不足,这是冷焊所特有的物理 & B+ }6 r: @0 } u0 h/ k
现象。其形成机理可描述如下:
5 m" {& f( w1 a: M( \
^BGA、CSP在再流焊接时,由于封装体的重力和表面张力的共同作用,正
6 j! s4 K6 q6 T$ i8 ]; X. v6 U常情况下都要经历下述过程,即阶段A开始加热―阶段B的第一次坍塌一►阶 2 w7 G7 f6 q! A" l" ?* E
段C第二次坍塌着三个基本的阶段,如图1所示。 5 Z- X5 ?/ k/ Y
如果再流焊接过程只进行到阶段B的第一次坍塌,因热量供给不足而不能持 续进行到阶段C,便形成冷焊焊点。 图1 ^BGA、CSP再流焊接的物理化学过程 (1)阶段A 开始加热时,^BGA、CSP焊点部的形态如图2所示。 图2 (2)阶段B 经历了第一阶段加热后的焊球,在接近和通过熔点温度时,焊球将经受一次 " L+ q( W" J! R' l
垂直塌落,直径开始增大。此时的钎料处于一个液、固相并存的糊状状态。由于 P3 x9 @6 T( I8 v% {8 E. ]/ J! s7 c
热量不购,焊球和焊盘之间冶金反应很微弱,且焊球表面状态是粗糙和无光泽的, 9 a5 s6 ~. M6 s* y6 h( D
如图3所示。 ' x& @5 U; t6 i: F% U" ^
图3 (3)阶段C 当进一步加热时,焊料钎球达到峰值温度,焊球与焊盘之间开始发生冶金反 , i; Z9 S; U" ?1 ` B
应,产生第二次坍塌。此时焊球变平坦,形成水平的圆台形状,表面呈现平滑而
/ u5 v2 d- x( @; @! A' Q- T6 [+ d光亮的结构。界面合金层的形成大大地改善了焊点的机械强度和电气性能。此时 3 w5 T0 E O* P
芯片离板的高度与开始时的高度相比,减小了1/3〜1/2,如图9所示。
3 _& G! R' D: H1 V- n
从上面描述的^BGA、CSP在再流焊接中所发生的物理化学过程可知,冷焊
6 Y& {( k+ }$ O% m焊点的形成几乎都是在再流焊接的B阶段时因加热热量补充不足。未能达到峰值
" V( a g/ h0 t7 S) v. Y: C温度便结束了再流焊接过程而形成的。因此当采用微光学视觉系统检查^BGA、 : X, a. W% ]" m" L
CSP焊点的质量时,便可以根据焊球表面橘皮状的程度和坍塌高度,来判断冷焊
8 O& u( x. s+ V6 {0 h1 R) I5 }# _发生的程度。
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