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IMC生长发育不完全、表面呈橘皮状、坍塌高度不足,是^BGA、CSP冷焊
0 b7 L9 ~- R3 M3 W2 X5 _) G7 `+ B焊点具有的三个最典型的特征,这些特征通常可以作为^BGA、CSP冷焊焊点的 ' F6 Q6 a# ^* j9 l! l3 O
判据。 5 J+ Q; l7 w4 S; |' b
1)再流焊接中IMC生长发育不完全(前面已经进行了分析和介绍,此处不再重 B* t" h0 {! C" ^0 m3 n
复)
& M0 f9 h6 z3 |+ D
2)表面橘皮状和坍塌高度不足 ^BGA、CSP冷焊点表面呈橘皮状、坍塌高度不足,这是冷焊所特有的物理
( Q! S5 W3 G3 i现象。其形成机理可描述如下:
( J: I1 X* X% e# h u
^BGA、CSP在再流焊接时,由于封装体的重力和表面张力的共同作用,正 + D' g: A" @" M3 u# @& \
常情况下都要经历下述过程,即阶段A开始加热―阶段B的第一次坍塌一►阶 ' E7 x, r% W2 i G4 a4 ?
段C第二次坍塌着三个基本的阶段,如图1所示。 ) t8 s$ L1 A$ E$ V# P9 c* z
如果再流焊接过程只进行到阶段B的第一次坍塌,因热量供给不足而不能持 续进行到阶段C,便形成冷焊焊点。 图1 ^BGA、CSP再流焊接的物理化学过程 (1)阶段A 开始加热时,^BGA、CSP焊点部的形态如图2所示。 图2 (2)阶段B 经历了第一阶段加热后的焊球,在接近和通过熔点温度时,焊球将经受一次
$ J) s+ K: K! s5 F2 d7 n垂直塌落,直径开始增大。此时的钎料处于一个液、固相并存的糊状状态。由于 2 v2 Q" K7 m+ B0 N2 K* S$ c) C
热量不购,焊球和焊盘之间冶金反应很微弱,且焊球表面状态是粗糙和无光泽的,
* q6 q3 Y1 P) N y2 |8 J$ p/ c如图3所示。
/ l, d+ r/ J- v T4 g v# B6 U, p: |; A
图3 (3)阶段C 当进一步加热时,焊料钎球达到峰值温度,焊球与焊盘之间开始发生冶金反 ; e. |# B+ B0 N( r6 T
应,产生第二次坍塌。此时焊球变平坦,形成水平的圆台形状,表面呈现平滑而
: k. ?' {3 |/ Z; h/ y. R7 ]. k光亮的结构。界面合金层的形成大大地改善了焊点的机械强度和电气性能。此时
: g0 S& W* b9 j% b/ r, N芯片离板的高度与开始时的高度相比,减小了1/3〜1/2,如图9所示。 , P. P2 ^% ^1 _9 }- m: {
从上面描述的^BGA、CSP在再流焊接中所发生的物理化学过程可知,冷焊
" R4 w9 g; x) t6 P8 ], `) E3 M焊点的形成几乎都是在再流焊接的B阶段时因加热热量补充不足。未能达到峰值 8 l. E F# x3 P0 f* x2 p
温度便结束了再流焊接过程而形成的。因此当采用微光学视觉系统检查^BGA、
3 |' Y$ _# f3 \% R& c: BCSP焊点的质量时,便可以根据焊球表面橘皮状的程度和坍塌高度,来判断冷焊
% b2 R0 X2 F B5 g; p& c: H发生的程度。 ; `# E( T1 z2 h. E0 S1 ]# x
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