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器件一旦坏了,千万不要敬而远之,而应该如获至宝。9 ~! L& j; Q# [5 C$ t* t& Y
开车的人都知道,哪里能练出驾驶水平?高速公路不行,只有闹市和不良路况才能提高水平。社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。2 D' D S6 A6 b; c4 {* e; Z7 y1 V
失效分析基本概念) _: S0 Y4 e" g0 m( K' j
定义:对失效电子元器件进行诊断过程。
$ e% l$ G% f b3 B8 n; v: z5 T- L, ] 1、进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。
" x6 a* V7 t: N6 T 2、失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式和失效机理的重复出现。% I9 v- R/ w( B) r/ j0 v
3、失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、参数漂移、功能失效等。
% |) T- G, \) X0 K 4、失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳、腐蚀和过应力等。
& U' T9 {/ {# i3 ]5 j, n 失效分析的一般程序
; E$ L7 {2 X" F5 |( i 1、收集现场场数据
8 O0 u: ?0 o& O) P2 U3 f% { 2、电测并确定失效模式
8 N! ?& g+ x l @( V, t, I5 D 3、非破坏检查
4、打开封装
/ B( L3 v) w" b& h+ m 5、镜验3 ?& ]6 }' u" E" m* U: ~/ S
6、通电并进行失效定位' Q; `% }; @$ E5 M& f" `% T, A1 M8 N' r
7、对失效部位进行物理、化学分析,确定失效机理。 Y) j I- L9 O3 n* y0 E' y$ v
8、综合分析,确定失效原因,提出纠正措施。
, k! V% n4 f5 `/ C 1、收集现场数据:
4 o' f1 R6 T( R1 @! S 2、电测并确定失效模式5 I# |' q1 |/ a1 u' t
电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。
2 K/ s; D: f+ p8 p( z 连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。
8 o) [8 [ H# ^5 y 电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。0 h2 ~! ^. ~% k) }7 M- W
确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路。4 \5 y/ G4 D* t* K( K
三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。
4 S) E& J7 R! x 3、非破坏检查
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X-Ray检测,即为在不破坏芯片情况下,利用X射线透视元器件(多方向及角度可选),检测元器件的封装情况,如气泡、邦定线异常,晶粒尺寸,支架方向等。
+ {" |$ z9 H# p0 J! y. O. [# W) C
适用情境:检查邦定有无异常、封装有无缺陷、确认晶粒尺寸及layout
: x. D& A$ l5 |( `0 y6 f0 a% y I 优势:工期短,直观易分析$ Z {8 {5 E4 c! C) \/ {* Y, N
劣势:获得信息有限
0 y1 @$ I# H( l1 B2 O4 u4 s& t 局限性:% j6 Y, B F: q! z
1、相同批次的器件,不同封装生产线的器件内部形状略微不同;
! _2 L5 W2 [3 |, k 2、内部线路损伤或缺陷很难检查出来,必须通过功能测试及其他试验获得。& C% G: ~ z, {: M
分析:
/ p. p9 i$ I+ @! a$ V k7 R# } X-Ray 探伤----气泡、邦定线
X-Ray 用于失效分析(PCB探伤、分析)
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(下面这个密密麻麻的圆点就是BGA的锡珠。下图我们可以看出,这个芯片实际上是BGA二次封装的)
6 B0 w3 ^, G, A: a
4、打开封装
8 ?& J: u! j( `; L) E. W 开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。
2 ^/ k3 D$ x. s
机械开封5 ]% X% Q# Q% A8 `1 B$ \5 j
化学开封
# n! {% ?0 N' }! z' ^ 5、显微形貌像技术/ V8 x3 B7 X, \& @" B+ S
光学显微镜分析技术
$ k* p9 J( {) X- I 扫描电子显微镜的二次电子像技术
( m4 b. w: ^4 ?9 c* |: T0 i 电压效应的失效定位技术. V9 Z* g9 [- Y7 |: j/ T. J1 c. Q
6、半导体主要失效机理分析
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电应力(EOD)损伤8 u+ r2 g5 g! m2 h) V: Z
静电放电(ESD)损伤. a5 M/ U* _$ U1 e& @7 S& [
封装失效# Z- Q/ v( }/ I+ V: z
引线键合失效" V. _# M$ B( E1 I: s$ A6 u3 C
芯片粘接不良
/ y. Y) j- |8 M3 \* y, N: q5 }' r 金属半导体接触退化
- _% A3 z6 W" G 钠离子沾污失效
* M/ U! c0 S. K 氧化层针孔失效 * a, Q) G% L. L5 w3 R( a- r3 V8 d% h
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