| Discussion On Cause & Solution Of PTH Board Blising
4 k# I6 Z9 _- x% j, F7 | p摘要：本文介绍了对一例孔金属化板板面起泡现象产生原因的分析，并就分析提出各种解决方法。最终确定引起孔金属化板板面起泡的原因。
; Y3 G) E3 a* T# a- t关键词：起泡、化学沉铜、全板电镀、活性、组份、自催化反应、歧化
5 F; ~, r$ E. k0、 现象
" Y3 V0 d/ ~% k9 |3 v. ^- U! G X$ y* v. {一次， 更换沉铜槽槽液后，化学镀后的双面板经全板电镀厚铜后发现板面起泡，并伴有结瘤。起泡处形状不规则，目测其形状跟某种液体的自然流动而留下痕迹相似，并且每一处起泡都是以点开始的。$ J9 w7 q, M* t: J% S
1.1一次分析
, |9 ^$ L2 }- N) Y5 _" m( k) B& K, Q- \我们孔金属化板的典型工艺流程是：化学沉铜（去油——水洗——粗化——水洗——酸性预浸——活化——水洗——还原（1）——还原（2）——沉铜），全板电镀厚铜（水喷淋——酸预浸——全板电镀——水洗——钝化——水洗——风干）。
. r! x9 |& r7 x5 A根据工艺流程我们直接否定了故障产生于电镀工段，因为电镀流程简单，如果产生这一现象，那末唯一的工序就是全板电镀，即是说电镀槽引入有机杂质。但是，共用电镀槽的图形电镀铜却没任何问题，因而确定产生于化学沉铜工段。" ^8 J7 b* Q5 C5 R8 e* G0 B
在化学沉铜工段，我们将重点放在还原与沉铜工序。因为根据更换槽液前的处理效果，去油与活化都不错，粗化与此现象没太大关系，而且这几槽槽液都没有更换。
! Y' |* R6 Q) K4 ^! i8 y: o) a2 [根据起泡形状分析认为：这是由还原液引起，因为沉铜液的配制严格按照供应商提供的参数执行，还原液也是刚刚配制的，还原剂中引入杂质可能导致这一现象。还原剂的成份不清楚，只知是浓缩液。还原之后没有水洗，直接进行化学沉铜，这使杂质带入沉铜槽成为可能。, U8 ]4 W2 b9 W* P0 o& h
1.2解决方案
! W, y x/ H! ^ V: M# J经与供应商联系，供应商建议将还原（2）改为蒸馏水水洗。采用建议后，情况有所改观，但是没有达到生产所要求的稳定度。经过一周多的维护与调整，溶液达到稳定状态，经过化学沉积铜的板面色泽鲜艳，铜层致密，经全板电镀后也没有起泡产生。$ o9 p3 t* a) h. t3 P' ~; L* \
1.3小结
' `+ l9 n% v; v4 i4 V. _: ]; N从上面的情况我们反过来思考所作的分析，在这一周多的时间内仍按供应商的参数维护，仅仅隔两到三天更换一次还原（2）的蒸馏水水洗，以防止还原（2）因还原（1）的残留液的带入而使起浓度上升。从这一情况看我们认为还原引入杂质的分析有误。! F' k& V2 P8 m+ A+ N( u
2.1二次分析3 n7 w; i% \1 p" C
既然否定杂质的引入的可能，那么原因何在呢？在控制过程中发现新配溶液的反应很快，起泡是否与活性有关呢？这引起我们的关注，但因为溶液已达到稳定状态，故障无从找起，槽液的更换周期较长，对于起泡的跟踪观察就停止。
; T4 L) }$ j& U8 C我们就活性的相关因素：Cu、NaOH、HCHO等组份的含量，工作温度，络合剂含量，稳定剂进行分析。; ^7 ^* A% |" Q$ ]* x$ Q% c. Q; V( x
我们从下列图中可知：
$ }. m4 J) V0 W0 v: n1） 沉积速率随着Cu含量的升高而升高，在起始部分几乎呈正比关系。
" G1 F( c: o) O6 N9 f2） 随着OH-、HCHO的浓度及温度的上升，沉积速率亦随之上升。可以从反应主式中得以证实：6 q) d& ?) w$ z9 H9 r" Z& P! e2 H
2HCHO+2Cu2++4OH-→Cu+2HCHOO-+2H2O+H2↑ (1)
1 n. H8 L0 o% K3 u; i! r7 e5 W当[HCHO]、[Cu2+]、[OH-]中的任意一项上升，平衡就左移，即反应速度加快。
5 M' f/ ]) G' I" H% m# L5 R2 f3） 浓度超过阀值，沉积速度增长缓慢，有资料表明此时副反应增强。其中几个副反应值得注意：
1 l7 h) k' C: WCu2+→Cu+(2)
0 O$ g6 J8 a7 ECu++Cu+ →Cu↓+Cu2+ (3)1 ~5 G& y7 I z" Q/ W9 S
（2）、（3）式说明了在强碱条件下，Cu2+可能被还原成Cu+，Cu+在强碱条件下易歧化形成细小的粒，不规则的分布于溶液中。) J7 v; Y5 q' y2 U$ r
4） 反应（1）式中有H2产生。4 H) A3 Z6 a, I& r; M( ^, O) g
因此从反应入手分析：新配制溶液的浓度我们一般取推荐的上限与下限值的中值，因此溶液的活性极强。假设经高浓度的还原（1）处理后，再经低浓度 还原（2）处理，板面部分残留液的浓度还没有完全降低，直接入化学沉铜槽，极强活性的镀液使Cu在板面迅速沉积，残留液浓度较高部分的催化性较强，其反应速度也较快，使Cu来不及均匀、致密的沉积并与基材铜箔牢固结合。反应产生的H2也来不及排出，就被沉积的铜包围形成气泡，从而使沉积的铜游离于基材铜箔产生起泡。瘤状物质则有可能是高速反应的副产物Cu颗粒附着于板面，我们知道Cu颗粒以球面与溶液接触，不似基材铜箔以部分面积接触。因此就反应面积而言，铜颗粒较大，其反应速度也快许多，使局部自催化反应的化学沉积越来越快。
9 J5 ~. [% I5 h3 Q/ _基于上述的认识，我们知道活性过强（即反应过快）是起泡产生的根本原因。因而控制反应速度才能从根本上解决起泡的产生。, ^6 c; _! O; o) _
2.2解决方案
# {; ~$ @/ Q; o% M4 X有2.1的分析，在第二次更换槽液时，我们注意了组分的控制，并将供应商的参数作了更改，现表述如下：
+ I; e8 B% u! h5 _/ Z, \经上述变更后，工作温度采用低温启动组份控制在较低的状态。更换槽液第一天沉积出的板子，色泽鲜艳、镀层致密，孔化质量好，起泡比例只有0.8%（按块数计）左右，即使存在这一现象的，起泡面积小、程度轻。相对前一次大批量、大面积、程度严重的情况而言，状况改观极大。经两到三天的正常维护，起泡现象完全消失，从而达到稳定生产。' f) `7 R3 g, F0 L' A
2.3小结/ D: b3 H. S( ?9 v8 V
经上述的调整，基本达到我们所期望的状态，但依然存在起泡现象。源于这次的调整是一次试验。各组份没有达到最佳的匹配状态。经过适当的调整是完全能达到最佳的。
( S7 A$ w' F; P7 ^& n3.几点建议
) N' W, B( L; H4 a1） 从综合因素考虑，减缓反应速度的措施可全面一些。在降低Cu、HCHO、NaOH组份浓度的同时，可增加络合剂、稳定剂的浓度，这样既可使组份保持相对较高的浓度，避免组份浓度过低造成黑孔及其它不良的孔化，又可以保持较为缓慢的反应速度。即是说采取单一的方式是不可取的，那样会导致溶液组份失去平衡。4 f& Q* {# D7 H2 ] {( m
2） 随时间的推移，组份浓度应随着升高。所以，在开始的几天，严密监控组份浓度极为重要，根据沉积质量适当调整组份浓度。当达到稳定状态时，应逐步恢复到供应商的参数值。
$ a& r8 T5 O" U7 P5 u% s( n! K4 c3） 还原剂浓度适当低些。* s/ b0 @, Q% r5 T, @
必须指出：本文只作定性的讨论，对于量的概念应根据实际情况予以不同的处理。所以在行文过程中体现出这一点。在操作过程中作好记录，找出一般性规律以便于规律性添加，因为有些组份的增长并非线性。
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发表于 2008-5-8 21:04
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