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为什么在通孔位置金属化会出现空洞或者较金属化缺?

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1#
发表于 2020-8-3 13:30 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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大神,能解释以下为什么在通孔位置金属化会出现空洞或者较金属化缺吗?
6 m$ l; j1 D: t

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2#
发表于 2020-8-3 14:31 | 只看该作者
可能是50um的通孔太小金属化没法流入,也有可能是有堵塞物体。建议改用激光镭雕,做立体电路工艺:最小处理可以达到20um的线宽

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3#
发表于 2020-8-3 15:15 | 只看该作者
你这个问题描述不清楚啊,所有出现的空洞都在通孔附近还是在只有这一个,如果都集中在通孔附近,那可能是通孔金属化未能很好被覆盖,导致里面出现缺陷而形成空洞,或者通孔加工之前存在其他异物造成。
. D" O1 D6 a1 |" S- i如果只是少量,可能是金属化工艺存在缺陷,具体要看线宽,颗粒缺陷等要求。$ B5 j/ J* g' n% F2 g0 B+ Z
信息太少,太难分析

该用户从未签到

4#
发表于 2020-8-4 09:30 | 只看该作者
好像EOS哦                           
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