|
|
EDA365欢迎您登录！
您需要 登录 才可以下载或查看，没有帐号？注册
x
( T$ f2 m3 `5 G1 w/ p9 J: R" c摘要
& K5 P' s( n2 n0 S+ g9 h, n以单片机为核心,采用独立的双回路温度测控方法,实现了对同一环境下,某一区域的两点同时进行温度测量与控制,
# i' i2 o) G0 ~+ m# R. N9 h$ E克服了单回路温度测控系统只能测量和控制某一区域一点的温度而出现的问题。实践证明,该系统能够很好实现自动化生
" k% W) f' U2 B2 c产过程中对温度的控制,达到预期目的。
# c( F/ m6 `2 M( x" O+ ~6 N关键词:温度测控,单片机,双回路
6 w# n7 `$ ~- ~) c' w8 Y& d
4 o2 m0 G) Z" _: z- u当前单回路温度测控系统能够对被控对象的温度进行较好! Q" t+ ~% X* j4 ~: s
的控制,但是对一些大型的机器进行温度控制的时候,由于机器
0 m. t* N( L/ L) g体积比较大,上下温度存在一定的差异,单回路系统就无法准确
$ W" @7 g. ?( J的反应实际的温度状况,不能准确地调节。为解决上述问题,设; r R" N/ t S, G
计一双回路温度测控系统，实现对某一区域温度的两点同时测
6 m& F7 Y. a+ K量、同时显示、同时控制,了解整个控制对象的状态,从而准确地8 ]1 S- E$ b6 }. W. T
实现对温度的调节。
7 T% H. g4 k: O' k5 g$ T/ ?. s1 e( l' N5 `0 {
7 S3 O+ \& J) }8 B3 x- ]+ {- K. l/ W! d# H. y3 q5 [& Q
' f3 E: {4 f: ^3 c$ E |
|
/1 
发表于 2020-4-26 14:44
收藏
淘帖
支持！
反对！