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[毕业设计] 水厂二氧化氯控制系统的设计

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发表于 2019-12-30 19:26 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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% K: s; W+ U* ^8 q. i/ K9 N
摘要:为了充分发挥二氧化氯的消毒功能,必须研制一种能自动、安全、适量生产二氧化氯消毒剂的控制系统;基此,设计了一种4 X, t& A* P" l9 t7 I% P* u
以AVR单片机为核心的二氧化氯控制系统,给出了其工作原理、硬件组成和软件结构,重点介绍了该系统的控制算法;由于水净化过
9 Q2 s3 \2 u* M, m; u0 c$ a0 R程具有很长滞后时间以及不确定性,提出了以流量前馈加仿人智髓模糊的控制算法;现场应用表明,该控制系统界面友好,控制精度较" \. F7 h# r% Z3 B; N) D# J
高、抗干扰能力强、能连续稳定运行。. S% b' P; z- @5 j' T/ i
. ^3 @) ~7 m2 ?2 q* m
水处理过程中液氯对饮用水及其它工业用水进行消毒除菌8 p& b2 o, A4 T3 j' c* |
时,会产生致癌物质和其它副产品,而二氧化氯作为新型消毒
- s# M( l* @3 X+ p9 Y, U. i% x剂,具有广谱、高效、快速的消毒效果,对大肠杆菌、葡萄球
  V7 q$ x( q* C8 X7 j% u% D菌等具有很好的杀灭作用,还可以除去水中色度、臭味、藻类
/ n* A+ D' |! B1 h, k& h% F6 A等,并且其副产物少,不生成三氯甲烷等卤化物。加之其杀菌/ V7 S0 c) T& ^/ c9 R
效果基本不受PH值与氨的影响,具有持久的抑菌效果,是国7 @8 S  u& P# i+ \1 V! J
际上公认的氯气消毒剂最理想的替代产品[1]。但二氧化氯不稳) W) J! P  R: H# j5 s
定的性质决定了其必须现场制备,因此要想发挥二氧化氯的作$ H" t( V7 k8 I% D1 h
用,必须研制一种能自动、安全、适量生产二氧化氯消毒剂的
$ N# A* d- R" @0 b控制系统。本文所介绍的以AVR单片机为核心的二氧化氯控, b9 ^$ f# }" O' v" K4 O: g
制系统就是在水处理过程中用于制备二氧化氯和自动投加二氧0 i  R9 t/ p9 S
化氯的自动化系统。
" {) q4 g" U) qATMEGAl6是一款高性能、低功耗的8位AVR单片机,( y1 i- h, V. K0 N. v( ]' [
具有先进的RISC结构,8路10位ADC;16K字节的系统内
8 j4 q  _: O$ y- N5 O( J可编程Flash;512字节的EEPROM[2]。我们设计的以AVR
: p! Q% {( V. s3 E单片机为核心二氧化氯控制系统具有恒温控制、余氯量控制、% q: o1 ~9 r6 ]; N: j4 V
缺水检测、欠压检测、手动/自动切换以及与上位机的通信功
/ q) i2 I# f. l能,该系统界面友好,运行稳定,具有广阔的应用前景。' {" ]6 x+ n+ C" \' S: y% P& c; G
1 系统结构与硬件设计
1 w  h8 m* u( e7 `1.1 系统控制要求及软硬件设计思路
+ k, D( v* J  ]% I4 N! j) K% s6 w
9 k) i! Y& E9 O制备二氧化氯的常用方法之一是氯酸钠和盐酸反应生成,
8 n+ c" ]& t: V+ T. m3 M- B原料通过计量泵加入反应罐内。系统的控制要求有二:其一是
: q" U, D8 p- C2 _实现反应罐内恒温控制;其二是实现清水池出水口处的二氧化
" N9 y$ p$ q1 V- P& E氯含量控制。根据功能实现的要求,设计了以ATmegal6单2 W5 o( t0 u3 A1 Y$ D
片机为处理核心的硬件系统。对于恒温控制部分,由AD590
8 {% c* z- u5 a# o7 c! F: N' z% g半导体温度传感器采集回来的信号经放大后,送人AVR单片
( h7 v% [* e6 q% |机的A/D端,转换后与给定的温度进行比较,按仿人智能+ p$ a1 D2 {& R7 E
PID调节算法[31计算出该时刻的值,经光电隔离和功率放大
. g5 Y6 J8 U0 y- ~9 _. ]! D7 k后,控制双向可控硅调压模块来达到恒温控制。对于出水口余( z6 r; p. m1 T2 Y7 i8 ^5 v. e
氯量的控制,由余氯传感器采集信号经处理后,由AVR单片
) h& a: a7 H  P) ~1 W机采用仿人智能模糊控制加出水口流量前馈控制算法对计量泵
  {* b1 O7 T6 O, \的频率进行调节,从而改变二氧化氯的投加量,使出水口处的5 @& |" n" v3 w7 ~3 l4 M2 e
余氯量保持在允许范围内。系统的整个框图如图1所示。
+ k0 d3 X. ~8 Z0 _4 E: K* x; c  B0 N! Z: M7 W: I
1.2系统硬件结构
6 E" v7 G' ?$ C$ x* m2 k* \根据以上设计思路,采用的硬件结构如下:: }0 \5 i$ N% @! E+ u3 U; u
(1)数字量采集:数字量采集由单片机的I/O口完成,主
( A* z! K( k6 a& @* v5 \. X要检测反应罐的工作环境,比如:反应罐的水位,自来水的水$ ^2 I6 p. @, Y) t' T7 Q2 i
压等。数字量只是一些开关量,开关闭合后,TP521的发光管! s, |5 Z/ W# i

+ t) ?5 N3 W; t' U5 F9 X工作,光电隔离输出低电平,单片机检测这个信号即可判断反; R% s2 c2 _" N7 x, g$ K% m
应罐内的工作情况。' r% S( p+ b$ R: t" I
(2)模拟量采集:本系统采用的MAX192是Maxim公司.
' U; I* S  D1 M0 b+ G8 Y开发的8路10位SPI接口的A/D转化器,和单片机连接仅需' i" I6 T  o% Z, T" q  i8 m
要4个I/O口。为了提高控制器的可靠性和抗干扰能力,对模
' e% k3 H( L, l; N* Z拟量输人进行了光电隔离。, x" ?  e$ I- f5 _" ?# \
(3)液晶显示器:液晶显示器采用北京青云创新科技发展
  b# h. W" z$ `2 @( d$ u3 |有限公司的带中文字库图形液晶显示模块。LCM12864ZK中/ l3 D0 X1 q2 L3 V/ R9 H3 V" v
文液晶显示模块的液晶屏幕为128* 64,可显示四行,每行可0 K/ N# `: D& S5 W2 @& C# N
显示8个汉字。与单片机等微控器的接口界面灵活(三种模式
- N: w: C2 R5 _; I3 _$ R并行8位/4位串行3线/2线),可实现汉字、ASCII 码、点阵& n9 l% O$ A6 b( r  A
图形的同屏显示。
1 J- J8 p* ?: w3 q1 h% y2 L& F# o- O(4)数字量输出:数字量输出包括继电器的开关输出和控
( ]) g! T( \' Y( |' N. 制计量泵的脉冲输出。继电器输出有两路,分别控制计量泵的0 B$ \5 j2 E4 T
电源和外部电磁阀。单片机通过光隔把信号输出给ULN2803; E5 [5 @7 h4 {$ P7 Q
来驱动继电器。.
4 V9 K4 `$ d+ F* }  d% k由于计量泵的脉冲频率比较高,一般在0~360次/min,% u/ T9 @( i: G, \+ G  @
在这种场合继电器不能满足要求,通过试验证实:直接用
. {8 Y; E) d" ?" y5 }- oTP521可以驱动计量泵工作,但是接线要求区分正负极性。
1 t8 l6 k0 L, `& U5 G) \! [0 q(5)模拟量输出:反应罐内的温度一般要求恒定在78C,
% h9 g5 L- ?8 j7 z1 t# w" ?! S必须要有一-个温度控制系统。传感器采用AD590,该器件为* b4 ?5 G/ P; e
半导体温度传感器,0C时输出为273 μA,每升高1C电流增: `. m8 P# E) \0 k3 H6 W: l5 Q- `
加1 μA,在一50~150C之间都可以保持读数的线性,完全符: x8 P( b2 k& T
合控制的需要。0 q6 U! S( V" E, P: u" r5 {( _% @
. K% o" q; c7 P. H/ V  w# ?
$ w& i4 ?3 ~# `5 n2 m8 W5 y

; ~( C5 X' ^( q  ^$ {- \1 H0 p  r; u
5 g; o4 c0 M7 o/ {
$ W  f& y+ P' s" f: E; R, d. H' x1 j3 ]4 ~( `. |
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