找回密码
 注册
查看: 317|回复: 1
打印 上一主题 下一主题

基于CD4011B芯片版图工艺的研究

[复制链接]

该用户从未签到

跳转到指定楼层
1#
发表于 2018-12-27 01:00 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

EDA365欢迎您登录!

您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册

x
基于CD4011B芯片版图工艺的研究5 R. }( E1 i) v; l

" F" ^2 s. Y4 x" l' v. _. k- N3 D

1.引言

集成电路产业是最能体现知识经济特征的高技术产业。以集成电路为主要技术的微电子产业的高度发展促进了现代社会的电子化、信息化、自动化,并引起了人们社会生活的巨大变革。集成电路布图设计(以下简称版图设计)在集成电路设计中占有十分重要的作用。版图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。集成电路芯片流片成本高,必须保证较高的成品率,版图设计人员应具有扎实理论基础和丰富的实践经验。典型芯片是经过实践检验性能优越,所以,通过研究已有的典型芯片版图是提高设计能力的有效途径。

版图设计是在一定的工艺条件基础上根据芯片的功能要求而设计的。目前,集成电路的主要工艺有三种,分别是双极工艺、CMOS工艺和BICMOS工艺。其中CMOS工艺芯片由于功耗低、集成度高等特点而应用最广泛,所以,研究CMOS工艺芯片版图具有更重要的意义。

本文对C D 4 0 1 1 B芯片进行了逆向解析,通过研究掌握了该芯片的设计思想和单元器件结构,对于提高CMOS集成电路设计水平是十分有益的。

游客,如果您要查看本帖隐藏内容请回复

8 ~+ k$ \* D$ {, h3 d

7 L! j. \" _. L& N6 O6 X
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

推荐内容上一条 /1 下一条

EDA365公众号

关于我们|手机版|EDA365电子论坛网 ( 粤ICP备18020198号-1 )

GMT+8, 2025-5-28 12:59 , Processed in 0.078125 second(s), 23 queries , Gzip On.

深圳市墨知创新科技有限公司

地址:深圳市南山区科技生态园2栋A座805 电话:19926409050

快速回复 返回顶部 返回列表