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关于表层铜厚问题??

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1#
发表于 2016-7-22 15:54 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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现在公司有一个板子,CPU出线部份有3mil的走线. 按参考板叠构要求,顶层铜厚要求1.8mil.      制板时,厂商说做不了。因为板子线太细了,只能做到1.4mil.  想问懂的人,真的是这样吗?
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3#
发表于 2016-7-22 15:59 | 只看该作者
怎么都玩些超极限工艺的

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4#
 楼主| 发表于 2016-7-22 17:41 | 只看该作者
谢谢楼上的回答!!!

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5#
发表于 2016-7-24 21:40 | 只看该作者
覆铜板基铜0.5oz时,铜厚约为0.18微米,约0.7个mil,这么个厚度的铜,蚀刻工艺最小做到3mil,应该算不错了。
5 b; G% d, |3 W# u. c1.4mil铜厚为1oz的基铜做出3mil,会加钱的吧?

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6#
发表于 2016-7-26 16:55 | 只看该作者
是的,你有看過阻抗試算軟體的圖示?, 外層(微帶線)完成蝕刻後剖面會是梯形(上窄下寬),銅厚為高,當高越厚則越難以控制阻抗要求。蝕刻間距也將越難控制。

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7#
发表于 2016-7-27 10:05 | 只看该作者
这个是要用base copper 1/3OZ去电镀的,最终厚度能满足IPC二级标准就不错了,即1.4MIL。做1.8MIL成品铜厚,目前业界十分困难。

点评

对pcb制造很熟悉呀  详情 回复 发表于 2016-7-28 16:23

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8#
发表于 2016-7-28 16:23 | 只看该作者
eda1057933793 发表于 2016-7-27 10:05
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对pcb制造很熟悉呀
5 i3 o7 p% a: l5 A" t

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9#
发表于 2016-8-2 20:27 | 只看该作者
那是因为你没有在美维电子做板,快捷最多也就2.5/2.5.美维已经可以35um/35um,钻孔做到3mil了

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11#
发表于 2016-9-13 16:22 | 只看该作者
主要是你的线宽只有3mil,属于细密线路,铜层太厚 很难加工

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12#
发表于 2016-9-25 11:28 来自手机 | 只看该作者
因为蚀刻的时候腐蚀出的铜不是个长方体,是一个梯形,铜越厚安规越大,风险越大

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13#
发表于 2016-12-10 15:16 | 只看该作者
是的,要用1/3OZ基铜去电镀。。。。。
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