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[仿真讨论] 表面粗糙度详解(四)Which roughness model is better?

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发表于 2016-5-13 15:56 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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本帖最后由 alexwang 于 2018-7-3 09:29 编辑 0 d" W8 e; X5 J0 q; `( @+ K

4 ^: c% d! c8 r" {
表面粗糙度详解(四)Which roughness model is better?
) U, P9 t6 A$ f0 R8 K  W
) d- R  s; Z* m9 o  {

0 s; m) Q3 Q3 h, V: v
本文大纲
1. 表面粗糙度( suRFace roughness)介绍.
2. 表面粗糙度Model的建立.
3. 表面粗糙度( surface roughness)的仿真.
4.仿真与测试的比对,Which roughness model is better?

9 Y# `# K) R8 I* _8 q4 h0 \# k0 @3 D7 P

8 }% t1 }% f5 S. j关与Suface roughness
铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小,则表面越光滑,反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程
2 W+ |0 ~( X* F; Z
Which roughness model is better?
1.Which roughness model is better?

( k% m4 M5 i# ~6 I6 U) h
A1:Hammerstad与Huray model的效果差不多,而roughnessmodel的参数都是透过量测S parameter correlation后fitting出来的。

" V$ i- |( e; F8 {
A2:(Classic)Hammerstad只适用于粗糙度HRMS<2um,而Huraymodel无此限制,简言之,Groisse或Hammerstad model仅限于光滑表面使用,而一般制程与SI(宽带)应用,则用Huray model。另外Hammerstadmodel在较高频时(30G~),K曲线斜率会变缓(渐渐饱和)。
$ m' _3 u/ e) {9 v
下面这张图则是说明只要适当的参数配置,两种model(对于较光滑的表面)可以达到非常接近的效果

! e* w! r+ ~- H4 e9 q: a: c7 U5 U+ Q: W+ t4 Z
上图从0~60GHz,两种model的效果都很接近的主因是:请注意左边坐标轴K系数<1.5,这表示此例属于low profile roughness
. H( c" O& s4 v% Z4 R" {
2. Howto simulate the resonance absorption peak at 35GHz?
( ^- E% [5 `% U/ Z- v
A:Itis caused from glassweaver effect.

0 G& P8 }2 w; ~4 X# n; y0 e

: l! C4 M5 ]8 ?! A
3.Measurement v.s. Simulation

# x6 g+ m; x0 B

Huray Model需要定义颗粒大小a (nodule radius),与单位面积颗粒数目N/Af (Insiwave, Huray Surface Ratio=4*pi*a2*N/Af)


* @( t3 t/ T2 P1 k0 l$ |5 I' m

4.Why does characteristic impedance Zo increase to infinity while frequency decreases to zero


* r" L4 _( N$ R6 @* T8 q- N
- c" S* p( Q$ {+ g- L
A:特征阻抗 (G是介质损耗所造成,通常很小)

5 _7 @# L8 z$ R1 [5 Z7 S. c
高频时   (这式子也适用于无损的传输线特征阻抗表示)

/ o+ B  l- f+ S* M
低频时 当频率趋近于0  (w®0),Zo趋近无限大

3 `/ t$ X" A+ V# B# ~
6 A: Q  l2 p# s% A6 B
-----全文完-----

6 W0 S3 I& Z3 y7 j5 u4 R6 I
, {) K3 \; }& K; I7 R6 [) Y
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