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本帖最后由 alexwang 于 2018-7-3 09:29 编辑 0 d" W8 e; X5 J0 q; `( @+ K
4 ^: c% d! c8 r" {表面粗糙度详解(四)Which roughness model is better? ) U, P9 t6 A$ f0 R8 K W
) d- R s; Z* m9 o {
0 s; m) Q3 Q3 h, V: v1. 表面粗糙度( su RFace roughness)介绍. 3. 表面粗糙度( surface roughness)的仿真. 4.仿真与测试的比对,Which roughness model is better?
9 Y# `# K) R8 I* _8 q4 h0 \# k0 @3 D7 P
8 }% t1 }% f5 S. j关与Suface roughness铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小,则表面越光滑,反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程 2 W+ |0 ~( X* F; Z
Which roughness model is better?1.Which roughness model is better?
( k% m4 M5 i# ~6 I6 U) hA1:Hammerstad与Huray model的效果差不多,而roughnessmodel的参数都是透过量测S parameter correlation后fitting出来的。
" V$ i- |( e; F8 {A2:(Classic)Hammerstad只适用于粗糙度HRMS<2um,而Huraymodel无此限制,简言之,Groisse或Hammerstad model仅限于光滑表面使用,而一般制程与SI(宽带)应用,则用Huray model。另外Hammerstadmodel在较高频时(30G~),K曲线斜率会变缓(渐渐饱和)。 $ m' _3 u/ e) {9 v
下面这张图则是说明只要适当的参数配置,两种model(对于较光滑的表面)可以达到非常接近的效果
! e* w! r+ ~- H4 e9 q: a: c7 U5 U+ Q: W+ t4 Z
上图从0~60GHz,两种model的效果都很接近的主因是:请注意左边坐标轴K系数<1.5,这表示此例属于low profile roughness . H( c" O& s4 v% Z4 R" {
2. Howto simulate the resonance absorption peak at 35GHz? ( ^- E% [5 `% U/ Z- v
A:Itis caused from glassweaver effect.
0 G& P8 }2 w; ~4 X# n; y0 e
: l! C4 M5 ]8 ?! A3.Measurement v.s. Simulation
# x6 g+ m; x0 BHuray Model需要定义颗粒大小a (nodule radius),与单位面积颗粒数目N/Af (Insiwave, Huray Surface Ratio=4*pi*a2*N/Af)
* @( t3 t/ T2 P1 k0 l$ |5 I' m4.Why does characteristic impedance Zo increase to infinity while frequency decreases to zero
* r" L4 _( N$ R6 @* T8 q- N
- c" S* p( Q$ {+ g- LA:特征阻抗
(G是介质损耗所造成,通常很小)
5 _7 @# L8 z$ R1 [5 Z7 S. c高频时
(这式子也适用于无损的传输线特征阻抗表示)
/ o+ B l- f+ S* M低频时
当频率趋近于0 (w®0),Zo趋近无限大
3 `/ t$ X" A+ V# B# ~
6 A: Q l2 p# s% A6 B-----全文完-----
6 W0 S3 I& Z3 y7 j5 u4 R6 I
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