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光刻与刻蚀工艺解析

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发表于 2022-9-29 13:44 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层,经过光照、显影,在光刻胶上留下掩模版的图形。; V9 b, k6 N- A) T* ~4 V
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  n' w) d7 Q* L, [在集成电路制造中,利用光刻胶图形作为保护膜,对选定区域进行刻蚀,或进行离子注入,形成器件和电路结构。
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该用户从未签到

2#
发表于 2022-9-29 14:06 | 只看该作者
非常感谢分享: B" f6 w; U7 Z4 ~* w' F
  • TA的每日心情
    开心
    2022-12-26 15:46
  • 签到天数: 1 天

    [LV.1]初来乍到

    3#
    发表于 2022-9-29 17:39 | 只看该作者
    光刻机,刻蚀机
  • TA的每日心情
    开心
    2025-7-9 15:15
  • 签到天数: 1128 天

    [LV.10]以坛为家III

    4#
    发表于 2022-9-30 12:35 | 只看该作者
    不错不错,很是深度和专业,学习下
  • TA的每日心情
    慵懒
    2021-7-31 15:23
  • 签到天数: 8 天

    [LV.3]偶尔看看II

    5#
    发表于 2022-10-26 22:50 | 只看该作者
    学习一下,谢谢分享  Q; D: J+ ^3 `0 O: v

    该用户从未签到

    6#
    发表于 2023-7-27 00:24 | 只看该作者
    非常感谢分享

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