光刻与刻蚀工艺解析

showmaker

光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图形。


* C6 {/ y. p  a* d在集成电路制造中，利用光刻胶图形作为保护膜，对选定区域进行刻蚀，或进行离子注入，形成器件和电路结构。


% J* R- A7 t" `. k8 |# P$ k- E+ z
% H' @0 R2 z) x: u, i* P

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

Vincent_MH

非常感谢分享
8 v0 X* ^( G0 F: ]$ _1 L* r

tutututut

光刻机，刻蚀机

瞪郜望源_21

不错不错，很是深度和专业，学习下

awei1981

学习一下，谢谢分享

Renlz

非常感谢分享