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第1章 集成电路的基本制造工艺…………………………………………………………1: K2 w( x' w/ I: d6 D# ]
1.1 双极集成电路的基本制造工艺 …………………………………………………17 F2 O# T: b& T$ t
1.1.1 典型的双极集成电路工艺………………………………………… 1
$ v T3 z, T- k3 k1.1.2 双极集成电路中元件的形成过程和元件结构…………………. 2
/ Q; N6 R2 u( }- ?1.2 MOS集成电路的基本制造工艺………………………………………………… 5
9 |$ M; ]4 j: P1.2.1 N沟硅栅E/DMOS集成电路工艺…………………………………….……6 ; p. [/ T6 J0 m$ }0 _
1.2.2 CMOS集成电路工艺 …………………………………………………7 1 O1 q9 j% x- m% v" [( G# c4 R( h! |( C
1.3 Bi-CMOS工艺 ………………………………………………………………… 11* S7 ~4 n9 Q L
1.3.1 以CMOS工艺为基础的 Bi-CMOS工艺 …………………………… 11 % ]0 h3 N* A& I( Z
1.3.2 以双极工艺为基础的 Bi-CMOS 工艺 ………………………………12
$ a) s( {$ I' z4 L5 P复习思考题…………………………………………………………………………… 14
* v1 t" `5 J: G& W. W" K第2章 集成电路中的晶体管及其寄生效应 …………………………………………… 16
7 \% Q5 c4 i+ q" _5 a3 B* a% \0 ]2.1 理想本征集成双极晶体管的埃伯斯-莫尔(EM)模型………………………… 16 ' w( H6 s7 X9 i A' r
2.2 集成双极晶体管的有源寄生效应……………………………………………… 182 t' m. `! r( j# @1 O5 r' `! e
2.2.1 NPN 管工作于正向工作区和截止区的情况………………………… 18
8 R% ?5 y @4 k! _1 z( ~$ x2.2.2 NPN管工作于反向工作区的情况…………………………………… 18 , r2 }1 q5 B' C" g# E5 T" M
2.2.3 NPN管工作于饱和区的情况……………………………………… 19 3 b5 z4 R' V% Z+ ?/ ~8 f3 d
2.3 集成双极晶体管的无源寄生效应……………………………………………… 20
8 a7 h" n5 `4 i/ O) z8 c7 B2.3.1 集成NPN晶体管中的寄生电阻 …………………………………… 20 ) m4 o1 \; @( n1 n
2.3.2 集成NPN 晶体管中的寄生电容 …………………………………… 25 ( X7 U- N T: d; R; c7 j! J
2.4 集成电路中的PNP管 ………………………………………………………… 28
% G8 ?( l. m- E' N2.4.1 横向PNP管…………………………………………………………… 28
* i% D! _9 A3 w/ Z, a* r2.4.2 衬底PNP管…………………………………………………………… 33
, Q' P/ D; s+ v" D" L0 R2.4.3 自由集电极纵向 PNP管……………………………………………… 34
! X) e2 `: E* [5 U7 W$ c; N% o" Q2.5 集成二极管………………………………………………………………………35
* Z% ^2 }, |) ?, `* d) y; w2.5.1 一般集成.二极管 ……………………………………………………… 35 / V$ _8 I9 X' Q5 w
2.5.2 集成齐纳二极管和次表面齐纳管 …………………………………… 36 3 \$ N! `0 B" L& o& V# Q8 }" a# _ o
2.6 肖特基势垒二极管(SBD)和肖特基籍位晶体管(SCT)…………………… 370 W' M5 J$ z* g$ v8 u) @/ ~
2.6.1 肖特基势垒二极管 …………………………………………………… 37
; p7 H3 f R, S! P; h9 L5 i7 }2.6.2肖特基箱位晶体管………………………………………………… 38
7 U, D+ Q& p' N0 s0 F5 J: d1 q1 ~2.6.3 SBD和SCT的设计 ………………………………………………… 40
! T, Q/ Y Q2 x& ~- B- a2.7 MOS集成电路中的有源寄生效应 …………………………………40
8 m6 i; L, J' V$ m2 n2.7.1 场区寄生M0SFET …………………………………………………41
% V) L* k( c8 K3 h9 ~. b2.7.2 寄生双极型晶体管 ………………………………………………… 41
5 |' ^# J. V0 g' _ v# x2.7.3 寄生 PNPN效应………………………………………………………42 ( L# H3 K! c C( T; A3 O. E
2.8 集成电路中的 MOS晶体管模型 ……………………………………………… 456 H( ~& h. ]/ m
2.8.1 MOSl模型 ………………………………………………………………45
' b. W/ O$ D& M9 G2.8.2 MOS2模型……………………………………………………………47
8 H2 N# Z. Y1 |9 [1 N' \, b2.8.3 MOS3模型 …………………………………………………………… 47 ' g8 N. c8 d* C
复习思考题 …………………………………………………………………………… 48" |8 \% z9 P0 F2 B7 v: v$ S
第3章 集成电路中的无源元件 ………………………………………………………… 50
8 D9 H' ~3 I' i3 [1 [5 Z3.1 集成电阻器…………………………………………………………………………50, y: ?8 J) d) ]# r% w' s; S
3.1.1 基区扩散电阻 ……………………………………………………… 50
' Q5 M; f& M) o) |+ l6 \3.1.2 其他常用的集成电阻器 ………………………………………… 55 ! j8 z3 J& J7 W3 I J' _
3.1.3 MO)S集成电路中常用的电阻………………………………………59
4 \8 V+ Z4 C* C% x! k+ u4 U3.2 集成电容器………………………………………………………………………6()
& [6 _) F' Q: M" G f, Z b6 D: h; y3.2.1 双极集成电路中常用的集成电容器 ………………………………… 60 - X! D# Q8 p4 o" c- M) A
3.2.2 M()S集成电路中常用的MOS电容器 …………………………………62 $ a! G7 r3 I# x/ G
3.3 互连(内连线)…………………………………………………………………… 63- n5 `( x+ Q+ O+ o
3.3.1 金属膜互连 ………………………………………………………… 63 5 T+ B* ~0 V" g/ N9 E4 B
3.3.2 扩散区连线 ……………………………………………………… 64 5 P+ L8 R5 ~! H' c, o0 M' ^; q. I
3.3.3 多品硅连线……………………………………………………64 ( X, @% ~ w) s+ \6 P! c8 [+ f$ T
3.3.4 交叉连线……………………………………………………………… 64
- x* ^% F( M8 t: A复习思考题 …………………………………………………………………………… 65/ E6 o9 R1 n: E
第4章 晶体管-晶体管逻辑(TTL)电路 …………………………………………………67
0 B) h- L8 i; V D+ Q3 t4.1 一般的TTL 与非门 …………………………………………………………… 67/ Y2 v5 f$ w( w( k- w5 x( l1 O
4.1.1 标准TTI 与非门(四管单元) ………………………………………67 ( y* I( \5 U4 g
4.1.2 54H/74H五管单元与非门…………………………………………… 68
( i# @% {# I/ I/ k4.1.3 六管单元与非门 ……………………………………………………… 69 # G( i! j; X+ |* x7 }+ v7 i* } W; `
4.2 ST1L和LSTTL电路………………………………………701 R/ L) n: Q* z f9 k/ m
4.2.1 六管单元STTL 与非门电路·………………………………………70 * W, W2 ~. G( _, l
4.2.2 低功耗肖特基TTL(ISTTL)电路 ………………………………71 ( N. v( l4 q( R3 o9 t' t
4.3 1 STTL门电路的逻辑扩展 …………………………………………………… 72
- G8 W- J4 c Y/ c% C2 }( \$ j4.3.1 OC门 …………………………………………………………………72
% P2 m5 ?+ x5 j* g9 [. K8 [4.3.2 三态逻辑(TSL)门 ……………...................................744 `/ ?4 }4 _# r2 H$ o
4.4 ASTTI 和ALSTTL电路 ……………………………………………………75
$ T' w# w" m) P0 `2 P! c# O4.5 中、大规模集成电路中的简化逻辑门 ………………………………………… 77
8 d8 i/ o& j" j3 d. Y* P5 ~* H4.5.1 简化逻辑门 …………………………………………………………… 77
3 V P& J( ]4 {4.5.2 单管逻辑门………………………………………………………… 78 $ q- Y( v6 m- u L9 B8 f
4.6 ISTTL电路的版图设计……………………………………………………… 82 ! ]$ _1 `0 M( t) V. Z2 ?
复习思考题 …………………………………………………………………………… 83+ v2 h6 b& p4 q4 T/ M
第5章 发射极耦合逻辑(ECL)电路 ……………………………………………………·89$ i _4 Z' e: K8 ~8 B( N* R
5.1 ECI门电路的工作原理……………………………………………………… 89
3 @" k. y- o& n# b0 J5.1.1 射极耦合电流开关 …………………………………………… 90 ! u1 d4 h3 N+ A/ X
5.1.2 射极输出器 …………………………………………………………… 90 ' |* L; }3 E% X
5.1.3 参考电压源 ………………………………………………………… 91 q& t4 J3 y; ~; `! \
5、2 ECI 电路的逻辑扩展 ………………………………………………………… 92 & j) K; s; Z. s3 V& D/ _
5.3 FCI 电路的版图设计特点 …………………………………………………… 93* W6 R" x! W. C- C3 f4 j
5.3.1 划分隔离区 …………………………………………………………… 93 % |. l$ O6 v0 e: q6 ]
5.3.2 元器件的设计 ………………………………………………………… 93
8 G+ n6 V0 B0 @+ l5.3.3 布局布线 ………………………………………………………………95 1 t" M' Y: U: {8 J0 c
复习思考题 ……………………………………………………………………………96: j' @% p8 S7 w/ w
第6章 集成注入逻辑(IL)电路………………………………………………………… 994 ^/ W8 U( P$ V. B/ F
6.1 II电路基本单元的结构 ……………………………………………………… 99 - |( v K/ l: y# Z) T
6.2 IL 基本单元电路的工作原理 ……………………………………………… 100
5 o% m; p( w$ Z6 d0 u3 M% _6.2.1 当前级的输出为l态时的情况………………………………………100 * V# R9 _' {4 \6 H2 @
6.2.2 当前级的输出为0态时的情况………………………………………100
" t& A$ R1 m! C( b; _+ ~6.3 I2L.电路分析 ………………………………………………………………… 101
3 u* B: H' N: K9 b. C) X$ {5 l. |6.3.1 I2L电路中的器件分析 ………………………………………………101
) e$ n" c7 m4 v9 A# S% } T6.3.2 I2L用路分析……………………………………………………103 s7 C3 F2 g |: v, W
6.4 IL电路的逻辑纽合 …………………………………………………………105 4 f8 J5 C3 \4 S: v+ j% L3 q# _
6.5 12I 电路的工艺与版图设计 …………………………………………………105, C" N3 q& f8 M/ [( K: p" a% w
: S# m" l! e9 N; t& ~0 h! {( o( ^" V, q3 w' S, t) b# L. k. k( }
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