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直播主题:《技术揭秘系列(六)-光刻机的前世今生》 直播时间:5月18日 晚20:00 直播老师:原华为七级技术专家-李晓东老师
( c) m& `: G, U" j: k1、课程内容 光刻机作为芯片制造前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,在制造设备投资额中单项占比高达23%,技术要求极高,涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶,被誉为半导体工业皇冠上的明珠。/ d4 J1 |. J/ P: i5 G' p$ _' F
目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断,CR3高达99%。在当前局势下,实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战略意义,目前国产光刻机制程工艺为28纳米 的浸没式DUV光刻机,光刻机国产替代将迎来新的曙光,尤其是IC前道制造领域,将初步打破国外巨头完全垄断的局面,实现从0到1的突破。 本次直播将深度剖析用光刻机制造芯片的关键过程和原理,将通俗易懂的讲解光刻机为什么如何复杂和难以国产化,为什么说“光刻机是在挑战全人类文明的极限!”,同时会讲解光刻机全球产业链的构成,国产光刻机打破国外巨头完全垄断面临的挑战。
( u* m+ B6 j6 N' t0 w: {2、讲师介绍 李晓东老师4 {* x2 K# Y" q' X9 \% \8 Q
原华为七级技术专家 EDA365论坛特邀版主 1999/7~2019/12,在华为公司研发体担任硬件工程师、系统工程师、首席技术规划专家,先后从事光网络产品,数据通信产品,微波毫米波产品,5G产品研发工作; 2020年8月加入电巢科技,主要负责微波毫米波、无线通信系统设计的技能提升的教学与培训。 , i* g# X& V y1 Q9 H
3、直播要点 a、为什么芯片制造需要光刻机 b、光刻机的为什么这么难做? c、全球光刻机的产业链构成 d、国产光刻机面临的挑战 4、适合对象2 v0 q& B( J! R+ d& I+ y6 M* {- P
硬件工程师 无线电工程师 质量/可靠性工程师 电气工程、电力电子相关专业学生 直播主题:《技术揭秘系列(六)-光刻机的前世今生》 直播时间:5月18日 晚20:00 直播老师:原华为七级技术专家-李晓东老师 回帖提出相关技术问题,老师将在直播中进行答疑~~ |