直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊

MrL1 · 发表于 2022-3-15 13:49

EDA365欢迎您登录！

您需要登录才可以下载或查看，没有帐号？注册

x

直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊

rergr · 发表于 2022-3-15 14:24

直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面，射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的

dsgh · 发表于 2022-3-15 14:57

直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材），并不局限于金属。譬如，对于铝靶，它的表面极易形成不导电的氧化膜层，造成靶表面电荷积累（靶中毒），严重时直流溅射无法进行。这时候，就需要射频电源，简单的说，用射频电源的时候，有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，不会发生靶中毒。

帐号		自动登录	找回密码
密码			注册

直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊

EDA365欢迎您登录！

浏览过的版块

推荐内容 /1