|
EDA365欢迎您登录!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
pcb内层开路的原因?我们首先将造成PCB开路的主要原因总结归类为以下2个方面3 m# R" N% T9 B& A, Y, q) _9 O
7 U! z. g! \ E4 B: f. d6 H
现将造成以上现象的原因分析和改善方法分类列举如下:
# V3 E/ x y3 G% y/ y# ?1 F! }
6 f# G* S- S c. ^一、露基材造成的开路:
( s' ^7 I4 A& z/ T- H
% l9 ]& Y5 |; i# C1、覆铜板进库前就有划伤现象;
0 B/ R& Y! i: Z I k* o: d3 K" j5 Q3 M% y) W m u7 N6 J; R, R
改善方法:覆铜板在进库前IQC一定要进行抽检,检查板面是否有划伤露基材现象;
0 {' y2 k/ p. w
7 h, x7 l2 D1 i6 i/ L2 ~2、覆铜板在开料过程中被划伤;/ U/ q0 X F/ F8 p
: i( u0 a! k2 \1 ?3 v: T改善方法:主要原因是开料机台面有硬质利器物存在,开料时覆铜板与利器物磨擦造成铜箔划伤形成露基材的现象,因此开料前必须认真清洁台面,确保台面光滑无硬质利器物存在。
' J, U; Q& s* b" _9 _ b" ]) Z
* |* p: i# c& g( Q% p% H* U. w: {+ x3、覆铜板在钻孔时被钻咀划伤;
: Q8 ^/ }, L' r8 e+ L, d T- H' w7 q1 U0 `
改善方法:主要原因是主轴夹咀被磨损,或夹咀内有杂物没有清洁干净,抓钻咀时抓不牢,钻咀没有上到顶部,比设置的钻咀长度稍长,钻孔时抬起的高度不够,机床移动时钻咀尖划伤铜箔形成露基材的现象。
' C" ^* k5 L+ [9 w+ o: L7 S
/ A1 v3 @8 V4 Da、可以通过抓刀记录的次数或根据夹咀的磨损程度,进行更换夹咀;7 I1 ?9 P$ q3 ^% T% b
9 e* J* V/ `! O1 e* S
b、按作业规程定期清洁夹咀,确保夹咀内无杂物。
' E, Q) W0 U5 u7 J% a+ [" T' k9 }/ ~
4、覆铜板在转运过程中被划伤;/ L6 c1 C! w. c+ b& i: ~; {
9 f9 h2 y* P. f' \0 K; \1 [
改善方法:
5 n* P* d4 t* Q% X+ P
4 P1 T, p# i# B, _" b- d% j6 ]) {a、搬运时搬运人员一次性提起的板量过多、重量太大,板在搬运时不是抬起,而是顺势拖起,造成板角和板面摩擦而划伤板面;1 j8 Z* b, U& h, D N
' p4 m8 i( A" @' g% h" Zb、放下板时因没有放整齐,为了重新整理好而用力去推板,造成板与板之间摩擦而划伤板面。4 ~" M2 K3 U E8 P- S2 t4 y- |
& \ L, X* d! }( s: l, i7 X
5、沉铜后堆放板时因操作不当导致表面铜箔被碰伤;" u( D% K; C8 F- u. S( W
- q2 S/ M9 E) r+ |改善方法:沉铜后、全板电镀后储存板时,由于板叠在一起,有一定数量时,重量不小,再放下时,板角向下且加上有一个重力加速度,形成一股强大的冲击力撞击在板面上,造成板面划伤露基材。# L! u! }* w! i4 r# h: r
V8 R Q6 y. b" J! K& p+ `6、生产板在过水平机时表面铜箔被划伤。
; q. s& N4 g9 I
' h0 y6 ^4 y8 Z改善方法:, k0 X/ ^! ]% k/ C
, Q+ q( m/ A( Q- q; h; ua、磨板机的挡板有时会接触到板表面,挡板边缘一般不平整且有利器物凸起,过板时板面被划伤;
+ G) f- y1 C* G" W$ c% z: D/ q( h% A) p7 A
b、不锈钢传动轴,因损伤成尖状物体,过板时划伤铜面而露基材。
; n8 O( u, W9 i5 P# j1 w9 k8 g( X! F8 @# i
综上所述,对于在沉铜以后的划伤露基材现象,如果在线路上是以开路或线路缺口的形式表现出来,容易判断;如果是在沉铜前出现的划伤露基材,又是在线路上时,经沉铜后又沉上了一层铜,线条的铜箔厚度明显减小,后面开、短路测试时是难于检测出来的,这样客户使用时可能会因耐不住过大的电流而造成线路被烧断,潜在的质量问题和所导致的经济损失是相当大的。. w" \" s; P% c# }' {9 q
+ L) K: T/ S8 { y# ]) P2 H8 h二、无孔化开路:
2 h; N' z1 {6 v% |# F: z3 c/ ?# p8 j x+ y( t8 G* W; b
1、沉铜无孔化;
/ t9 {; t/ H# E$ _4 C' @( a
& E8 K3 \0 i& x1 K) o改善措施:2 o3 Q6 V. O* q* [
7 P+ ]6 J- y) ?2 C0 _
a、整孔剂造成的无孔化:是因整孔剂的化学浓度不平衡或失效。整孔剂的作用是调整孔壁上绝缘基材的电性,以利于后续吸附钯离子,确保化学铜覆盖完全,如果整孔剂的化学浓度不平衡或失效,会导致无孔化。
2 w6 c& @& n }* W6 n- ?( m+ v% Y' C( ]9 U
b、活化剂:其主要成份是pd、有机酸、亚锡离子及氯化物。孔壁要有金属钯均匀沉积上就必须要控制好各方面的参数,使其符合要求,以我们现用的活化剂为例:
% }9 u$ L3 k8 t0 s
5 m' n+ h" B1 W①、温度控制在35~44℃,如果温度低了造成钯沉积上去的密度不够,化学铜覆盖不完全;温度高了因反应过快,材料成本增加。5 I& V G8 M1 \
7 G) S; o! O+ a+ y/ h②、浓度比色控制在80%~100%,如果浓度低了造成钯沉积上去的密度不够,化学铜覆盖不完全;浓度高了因反应过快,材料成本增加。* L1 g6 Z) D7 ~5 W, g% O1 T
4 P1 \5 R8 b- W( b" b/ ?
③、在生产过程中要维护好活化剂的溶液,如果污染程度较严重,会造成孔壁沉积的钯不致密,后续化学铜覆盖不完全。( g/ H: E' F0 w, B0 V0 A4 ^- C
0 y7 y* w" c( \3 W4 x
c、加速剂:主要成份是有机酸,是用以去除孔壁吸附的亚锡和氯离子化合物,露出后续反应的催化金属钯。我们现在用的加速剂,化学浓度控制在0.35~0.50N,如果浓度高了把金属钯都去掉了,导致后续化学铜覆盖不完全。如果浓度低了,去除孔壁吸附的亚锡和氯离子化合物效果不良,导致后续化学铜覆盖不完全。1 b0 r" e" V0 `1 J S& h
6 L0 a7 z4 t- ?7 N) _3 V4 `d、化学铜参数的控制是关系到化学铜覆盖好坏的关键,以我司目前所使用的药水参数为例:$ G2 S& W. T6 P1 S6 u- a0 ^
! Z4 u7 D# r1 B# G①、温度控制在25~32℃,温度低了药液活性不好,造成无孔化;如果温度超过38℃,因药液反应快,铜离子释出也快,容易造成板面铜粒而返工甚至报废,这时沉铜药液要立即进行过滤,否则药液有可能造成报废。
: L& |5 ?! K- h1 a, v+ ^) [3 J
/ y) g* k4 y) w+ p" N' n②、Cu2+控制在1.5~3.0g/L,Cu2+含量低了药液活性不好,会造成孔化不良;如果浓度超过3.5g/L,因药液反应快,铜离子释出也快,造成板面铜粒而返工甚至报废,这样沉铜药液要立即进行过滤,否则药液有可能造成报废。Cu2+控制主要通过添加沉铜A液进行控制。
3 ?: a+ D: S: X, {( D1 l; Y- K5 F, t' ]
③、NaOH控制在10.5~13.0g/L为宜,NaOH含量低了药液活性不好,会造成孔化不良。NaOH控制主要通过添加沉铜B液进行控制,B液内含有药液的稳定剂,正常情况下A液和B液是1:1进行补充添加的。- X9 x' [' j4 T. Y
: d0 R; t4 c3 x* M/ T④、HCHO控制在4.0~8.0g/L,HCHO含量低了药液活性不好,造成孔化不良,如果浓度超过8.0g/L时,因药液反应快,铜离子释出也快,造成板面铜粒而返工甚至报废,这样沉铜药液要立即进行过滤,否则药液有可能造成报废。HCHO控制主要通过添加沉铜C液进行控制,A液内也含有HCHO的药液成分,所以添加HCHO时,先要计算好补充A液时的HCHO浓度升高量。5 T x& t; f& a: Q: o6 A
1 q7 c" D g6 `$ {, h
⑤、沉铜的负载量控制在0.15~0.25ft2/L,负载量低了药液活性不好,造成孔化不良;如果负载量超过0.25ft2/L,因药液反应快,铜离子释出也快,造成板面铜粒而返工甚至报废,这样沉铜药液要立即进行过滤,否则药液有可能造成报废。生产时第一缸板必须要用铜板进行拖缸,把沉铜药液的活性激活起来,便于后续沉铜产品的反应,确保孔内化学铜的致密度和提高覆盖率。
A, w( c. }6 A8 R$ B. M# m7 C8 j9 e+ A A1 @5 \9 w6 _' Q& n
建议:为了达到以上各项参数的平衡和稳定,沉铜缸添加A、B液,应配置一台自动加料机,以更好地控制各项化学成份;同时温度也采用自动控制装置使沉铜线溶液的温度处于受控状态。
B: H- A+ K. ?4 I9 d) E& e |
|