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Altium Designer 10 使用技巧

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    [LV.1]初来乍到

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    x

    + u; t# z) C8 t: s一、封装文件、PCB文件编辑时的吸附(Snap)的灵敏度。
    ; M8 _/ y, u" S, ~& B4 @% \- t8 d
    8 Y( M4 T+ j  I6 X, D7 S& L" ^  像焊盘中心、过孔中心、线段的端点、走线的端点、铺铜的顶点,这样的点有吸附光标的特性,鼠标移动到这些点的附近会被吸附到上面。Snap的灵敏度可以调整。
    - j. G* p& ~7 D: T1 Y& g; p6 J1 V- N  E6 e- g1 z/ H) l
      在封装编辑的时候,快捷键O B(或者T O)弹出板子选项,里面可以更改吸附到网格、吸附到关键点(Hotspot)的设定,如下图。
    ( N% J! N& }6 M5 ]8 M$ `4 l& m
    9 B+ ]+ n9 X8 x7 ~7 E  在PCB编辑的时候,快捷键是D O。7 M! W& a$ b& D# }3 H

    * [+ k1 }* a( p3 D                 
    8 S9 }1 i* V, C# g4 K0 ?1 _! ]8 c4 S; {& [/ c: `& k1 l/ C8 i0 P

    : b1 K% O& {$ Q/ I/ h
    $ ]5 f9 {6 c" h* \# r$ z二、Ctrl+鼠标左键高亮显示网络的对比度。
    $ ^8 V4 E0 ?0 c# L% N* Y1 ?* t
    ! k& {4 d2 Y, G, V' c7 k( \7 [  灰暗度在编辑区域右下角的Mask Level更改,如下图,有三个不同选项。; T7 m1 H0 R! ~4 V  M- N9 Q& A; a, p

    ' \# V# j& h5 y4 s. D) y                 
    3 m! D, u0 u  h! q
    4 N0 x! Z1 T2 X3 @   其中,Masked Objects Factor控制非高亮部分的亮度,Highlight Objects Factor和Background Objects Factor还没有弄明白。) a( p* ]8 G5 `5 o- n: L" l# x1 _

    7 F& Z# T1 w2 |0 I# M
    # d; q2 f2 W* }+ }6 \7 L( l* G* u
    ( F$ Q. ]- x. t  H" x4 x三、规则的设定。) }5 s" J: j6 W+ o9 {1 g3 y
    4 R8 q% ~% E+ m' B' i7 a
      1、大面积铺铜的间距和不同网络元件的间距。! t/ J0 Y8 k; F; S4 C7 ?4 g$ ]
    ! K4 E8 _+ P0 V8 S8 ?' y
      元件、走线、过孔之间的间距常用Clearance--All约束,
    % F' m: @5 Y" F) O
    3 x' ]; V, x9 E  A% O4 S" b3 b  大面积铺铜(Polygon)中,不同网络的物体,间距用类似InPolygon的约束条件来规定。当然还可以对不同层的Polygon进行最小间距的设定。
    ) A6 S# I$ |; R" y4 @# {9 e+ O( |3 r
    & X# i: f; I# I# U) Y7 E8 k# S

    5 k+ s+ s% N. ]! i( p: }' T
    2 r- n8 @, s: ]" ^6 X9 b8 g, P3 d6 B! \7 e0 X
    四、灵活的布线。% `4 V( }. I- q7 M# _  m

    2 x) \$ ~! w9 I  1、布线的过程中,默认是45度转角。在布线的过程中,按下Shift + Space可以实现角度的变换,分别是45度,圆弧(任意圆心角),90度直角,90度圆弧,和直连。五种效果如图:) G, \2 k3 p/ R3 G) m7 y$ L

    ) v* E8 u/ X+ S+ u! U# F
    9 A, Z9 [9 W$ T# L7 X
    8 X7 X4 x: a& @
    , Q# L: n) r! f9 C$ }! d9 A1 t3 K% G; I0 A9 i* j8 {7 ~
    5 h0 d9 S9 A: M( ?; @

      v' X3 r& a2 A3 L- x
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