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Altium Designer 10 使用技巧

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    [LV.1]初来乍到

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    发表于 2021-4-25 17:51 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    x
    % L- Y  [( @- h( n6 c+ v$ E
    一、封装文件、PCB文件编辑时的吸附(Snap)的灵敏度。6 g; a! P9 O% T4 M7 V& I& e. |" |+ ?

    " F$ Y1 G6 V/ C* k  像焊盘中心、过孔中心、线段的端点、走线的端点、铺铜的顶点,这样的点有吸附光标的特性,鼠标移动到这些点的附近会被吸附到上面。Snap的灵敏度可以调整。
    * m( }+ m. l+ e( g: q6 O$ @  q  i9 L) n- y; ]0 Y
      在封装编辑的时候,快捷键O B(或者T O)弹出板子选项,里面可以更改吸附到网格、吸附到关键点(Hotspot)的设定,如下图。" r2 h+ e7 }# ^3 n; V
    # F0 J/ J8 r) E" G
      在PCB编辑的时候,快捷键是D O。) d& h4 ?/ y' r5 H' l
    . S2 `1 J( p$ _
                     : _* F5 G  B0 O+ C+ c/ g8 k1 S+ j

    , @" E- f8 K% j! n; K( u2 ` / E; C; ?; M- [) w  e
    / Q. i1 B) |) L4 m9 Y4 z
    二、Ctrl+鼠标左键高亮显示网络的对比度。9 H4 I" s8 z1 s! b

    8 E( M2 ]7 j% ^  灰暗度在编辑区域右下角的Mask Level更改,如下图,有三个不同选项。
    0 ]* l+ T. p3 s# O  k# y: \& k. N5 H- I3 E  @
                     
    & @/ [1 b- O1 @. y3 @, @' `% N, t
       其中,Masked Objects Factor控制非高亮部分的亮度,Highlight Objects Factor和Background Objects Factor还没有弄明白。
    & K1 Q: S  c: P3 ]! z$ T9 g
    ! T5 f, z6 K* |3 K% U7 Y4 P 1 d7 V/ Z5 ]8 y8 c
    , D8 C1 n  v% w3 _( M/ H4 d
    三、规则的设定。
    6 b4 X( B: Z( c8 x; D* M# I. ?4 Q9 {/ N( {' H
      1、大面积铺铜的间距和不同网络元件的间距。
    ) [" D& Q8 U; H  a
    $ H- |+ w3 S; D+ n" ~( z' J+ V- p   元件、走线、过孔之间的间距常用Clearance--All约束,
    : s; f* c  A# I) l
    0 O& Y8 Q9 p4 ]  大面积铺铜(Polygon)中,不同网络的物体,间距用类似InPolygon的约束条件来规定。当然还可以对不同层的Polygon进行最小间距的设定。
    , {: y  s/ y' s7 a7 a4 z- P( a4 s2 }1 x' B* u  X& E) a
    0 t; P7 t& `: T

    % L3 X% J1 A5 j$ ~* X9 r8 @! A
    % y! |3 y. T+ \9 W) q7 h" i9 f- a6 L+ s! C; @! E+ u4 v
    四、灵活的布线。
    4 k: s- g3 B% o. |- A
    9 A+ ]# `6 C' c$ R' T: n: f6 P  1、布线的过程中,默认是45度转角。在布线的过程中,按下Shift + Space可以实现角度的变换,分别是45度,圆弧(任意圆心角),90度直角,90度圆弧,和直连。五种效果如图:' p. ?& \" k- v: @; S* v

    ! x; W2 b* T$ B % c, O1 s* o1 A* I' ?1 }
    5 W* T' g$ c# O( e

    & m: ~$ w% f; v8 m; m9 g5 I; k5 U0 V
    . a. F$ \; B; _4 A9 S  `4 N
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    - d# o+ t( L* P1 g6 s8 \& |! H# q9 b6 [' v5 t1 ^/ D# u$ @
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