我国第一台28nm国产光刻机最早将于明年交付

shuddkk

之前我们报道过，中国长城科技集团旗下的郑州轨道交通信息技术研究院、河南通用智能装备有限公司，历时一年联合攻关，成功制造出我国第一台半导体激光隐形晶圆切割机。
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虽然晶圆切割机不如光刻机一般重要，但作为半导体领域内高端智能装备，我国拥有了晶圆切割机自研自造能力，就相当于离我们自己知识产权的高端芯片又近了一步。

而在最近，我国在制造芯片最重要也是最艰难的技术上有了突破——光刻机。相信大家都知道，世界上顶尖的芯片制造厂如今的主流技术已经到达了7nm级工艺，正在向着5nm前进。而我国自己的工艺却一直停留在90nm。

但就在最近，上海微电子装备(集团)股份有限公司披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。虽然28nm比起国际顶尖工艺还有几代的差距，但作为纯国产的光刻机，从90nm到28nm这个进步已经不是飞跃能形容的了。

上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率也有40%，同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一。
- T( `* w* ]; o6 \上海微电子这家公司如今有4大系列的光刻机产品，其中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造，采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆生产。500系列面向IC后道先进封装，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。

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cichishia

厉害厉害！！！！

FeiKou

看了前面，我差点以为你是个标题党！