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全板电镀和图形电镀的互补

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    [LV.2]偶尔看看I

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    发表于 2020-12-16 13:22 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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    用图形电镀工艺代替全板电镀具的优点是:在图形电镀后,只对基体铜进行蚀刻,而对图像电镀上的铜镀层不进行蚀刻,可以大大降低侧蚀的风险。
    6 q+ [9 K. \! o1 G* ^# A5 D8 ^
    1 E: S4 e2 h7 A' n$ X7 ^* `用图形电镀来代替全板电镀的不足有一下几项:
    & v- t. k- o& y6 B0 c
    . x' t- v& q' H6 U- _0 i5 N5 v7 U1.镀层薄厚公差取决图形电镀,无法严格达到产品特性阻抗的标准。% `1 B: X; \7 _# V* y0 M
    ; [2 }( ~8 N( E1 U4 t% e

    ' l" g, h: m9 R
    * I7 Y, {6 u+ P7 {& Z& `2.选用图形电镀技术生产制造高密度互连板的hdi时,规定抗蚀剂(即干膜)具备务必的厚度(关键由多孔铜的厚度来决定的,但抗蚀剂的厚度务必至少超过孔铜的厚度,否则的话会产生凹边状况),且空隙小,很容易产生显影不净等品质异常。同时,也会造成强碱性剥离困难,导致涂层分离或局部脱落,在后续蚀刻过程中会出现短线、缺口、变薄等质量缺陷。
    8 B# \' Q+ a- {$ W# `3 `
    $ ^* S, Y2 i0 g, [
    3 `1 u, M5 K8 C6 I- h  G( J
    ) ~  d1 e  i5 J3 b4 z3. 用图形电镀工艺代替整个全板电镀工艺。电镀前图形转移的线宽和线距公差补偿都是基于经验的。
    $ a2 [2 j- C6 j7 D3 [
      _) C/ q4 L/ K; F1 o; n8 g+ P为了弥补这两种工艺的不足,在高密度HDI线路板的生产中,通常先进行全板电镀,然后再进行图形电镀。这样,两种镀铜工艺的优缺点结合起来,相辅相成。具体情况如下:
    ( Q, @) S; {8 {3 J/ s3 F' }( }
    ' ~+ e' i$ k+ w# |% O- H1. 采用整板电镀工艺,在基铜上镀上一层薄薄的铜,这样就只在基铜和整个板上蚀刻一层铜。9 {8 F6 {/ ?* h4 z

    - }' f0 V$ R9 Q+ N6 K2. 可根据实际需要调整整板电镀和图形电镀的电镀层厚度,使生产的HDI产品达到产品质量要求。1 g6 v+ i' ]4 o

    - j% ]2 _5 Z+ _+ ~$ S/ D9 |3. 采用两种镀铜工艺比单板镀铜或者是图形电镀镀铜更容易优化工艺参数。. U6 z0 m* s1 r% B# r. q
    ( ?) W( Q: s9 G; D' F- S0 i2 O
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    [LV.1]初来乍到

    2#
    发表于 2020-12-16 14:31 | 只看该作者
    镀层薄厚公差取决图形电镀
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