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器件一旦坏了,千万不要敬而远之,而应该如获至宝。6 M8 W) ?. N8 K, l- y
开车的人都知道,哪里最能练出驾驶水平?高速公路不行,只有闹市和不良路况才能提高水平。社会的发展就是一个发现问题解决问题的过程,出现问题不可怕,但频繁出现同一类问题是非常可怕的。2 A; Q. B- c8 \2 \. b( `
失效分析基本概念
% N5 S5 K6 S, R' R. O- e# N 定义:对失效电子元器件进行诊断过程。
4 [+ Z! K) H4 H6 ^ 1、进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。: y1 f; `! L2 B
2、失效分析的目的是确定失效模式和失效机理,提出纠正措施,防止这种失效模式和失效机理的重复出现。
9 R5 ^0 {2 k, v g2 I 3、失效模式是指观察到的失效现象、失效形式,如开路、短路、参数漂移、功能失效等。
, M. F5 ~4 X+ d& S) v 4、失效机理是指失效的物理化学过程,如疲劳、腐蚀和过应力等。6 J5 L4 N: A% R. ~% @
失效分析的一般程序
2 e& O4 B1 ~- A: b+ @ w8 J 1、收集现场场数据 ![]()
1 f5 g8 {& D1 [+ N 2、电测并确定失效模式
$ y/ c+ h: R) F/ g 3、非破坏检查
4、打开封装; P8 t+ v+ b3 o8 j: s9 E2 W# \
5、镜验' k8 R, C; V! l D& C0 S- y1 D
6、通电并进行失效定位
7 B! T# f0 s/ U M# m/ O7 L 7、对失效部位进行物理、化学分析,确定失效机理。) ]) d( A5 P0 e
8、综合分析,确定失效原因,提出纠正措施。$ }: J _& @' O4 v. r! U
1、收集现场数据:
8 B' a( D* Z( A1 W3 x% C 2、电测并确定失效模式
4 N' w1 o; q7 B4 [* Q 电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。) a! j+ l& L+ _- T- A9 `5 T
连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。' L" \, O, s) w8 j6 m3 ]
电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。
: E+ Y: b3 [* o! _ 确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路。, @. o3 M( {3 ] y3 B( \# Q
三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。
; P7 d6 y, f! ^1 V1 Y' ?: _ 3、非破坏检查 ![]()
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$ A; L: [& I0 } d2 R, F
X-Ray检测,即为在不破坏芯片情况下,利用X射线透视元器件(多方向及角度可选),检测元器件的封装情况,如气泡、邦定线异常,晶粒尺寸,支架方向等。 ![]()
# F" u2 D9 k( p. r* x/ {1 _ 适用情境:检查邦定有无异常、封装有无缺陷、确认晶粒尺寸及layout) B* s n8 n. ]2 M# j
优势:工期短,直观易分析
. }% S7 s" f7 F 劣势:获得信息有限3 D" s+ T$ ] l
局限性:
8 o: H4 k# m# B' R& _ 1、相同批次的器件,不同封装生产线的器件内部形状略微不同;
9 O' ?/ O, }9 ^7 h* D( ~; t 2、内部线路损伤或缺陷很难检查出来,必须通过功能测试及其他试验获得。
+ a/ R; v- p3 p6 n 案例分析:
, ?9 i% w$ J) n% \ X-Ray 探伤----气泡、邦定线
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* u* L9 ^, J% c( o8 g X-Ray 真伪鉴别----空包弹(图中可见,未有晶粒)
![]()
' R" l) [5 w! X/ b2 y1 {) Y( v+ v
“徒有其表” ![]()
* |, g: E0 y8 ~" O3 U2 o
下面这个才是货真价实的 ![]()
" o1 T4 d& E7 M+ N$ N" w/ ] X-Ray用于产地分析(下图中同品牌同型号的芯片)
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" B* u$ H$ v" h) u/ {3 R
X-Ray 用于失效分析(PCB探伤、分析) ![]()
0 g9 ~- G, P Q0 K' X+ z
(下面这个密密麻麻的圆点就是BGA的锡珠。下图我们可以看出,这个芯片实际上是BGA二次封装的) ![]()
3 |4 X4 e) ~0 G& t G 4、打开封装
( b) u) d( S- a) t' | 开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。
![]()
8 e' E5 p' v( w H
机械开封
+ S1 G. t! q: p& k 化学开封6 _) Y) W/ @3 @8 ]. U; A
5、显微形貌像技术
, @. q+ D4 x" X' ? 光学显微镜分析技术
% f( A' \7 e9 @+ k. V 扫描电子显微镜的二次电子像技术
2 ]+ X5 W, n& i9 t7 ] 电压效应的失效定位技术
& G/ a5 v% n6 Z' a6 J6 B. g 6、半导体主要失效机理分析 ![]()
$ Z8 a( N5 X. h, W 电应力(EOD)损伤
5 V3 u6 \: n1 s( i5 X) }+ f7 a7 l 静电放电(ESD)损伤
3 q3 t4 t; k+ A* G+ ^# q 封装失效5 p( c1 K8 j2 E" Q$ a
引线键合失效
) o3 g3 |9 T) [3 I# }# D3 } 芯片粘接不良5 v6 U$ B0 V: Z+ C- X' \; E
金属半导体接触退化& L2 H! ^+ W* k/ l) R X6 E
钠离子沾污失效
2 ]& P7 E7 m5 m/ h* O/ O1 y 氧化层针孔失效
8 J' l5 R" X5 n2 ]8 V2 `( R |