EMI 机壳屏蔽 —— 导电漆,电镀与真空溅镀的比较2 f) J, r% q/ e8 p4 c' P
& d& r1 g$ W6 @一般来讲,EMI防护是一个系统工程,从产品设计开发阶段即需要将EMI贯穿始终。但是,由于各个方面的原因,高频线路很难达到在PCB设计阶段即解决EMI问题,大多都需要通过对机壳进行屏蔽处理来达到防EMI效果。
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导电漆 (electric paint)% b- k4 a% |$ q( M6 @; `6 z
迄今为止,成功的导电漆都基于聚丙烯、聚氨脂、乙烯树脂或环氧树脂等衬底。导电漆都有适用期,而更重要的还有贮存期,后者典型的为6至12个月。所有这些漆都对塑料基底存在腐蚀作用,所以导电漆能穿透塑料并固定在孔缝中。九十年代的现代导电漆都有不同程度的胶粘性质,而以前由于缺乏胶粘性,经常产生导电漆剥落,甚至将印制板导电路径短路,而不完善的屏蔽所留下的缝隙将起缝隙天线的作用。所有基底表面应仔细清洁,清除油脂或其它污渍,轻
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度擦伤也将影响粘附力。
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/ X7 e& E6 u; \8 ^! J电镀' X7 P' I- p ]5 I; g$ s
无电解电镀(化学镀)
2 S$ }, x; m) m/ N化学镀的程序不应与常规的电镀混浠,电镀需要用直流电流使金属镀覆。化学镀或自动催化镀是化学镀覆均匀的固态金属涂层,它将减小零件表面的微电池反应。塑料的化学镀处理是在非导电塑料基材上产生薄金属涂层。通常选用复合镀,即镀铜(高导电性)再镀镍(防锈)。化学镀铜本质上是纯铜镀覆,而化学镀镍可包含3-10%磷。较差质量的模压制品和复杂形状的模压制品不适用于双侧处理:因为所有模压制品的高应力部分对化学反应都很敏感,所以较差质量的模压制品在化学腐蚀阶段就要发生破裂。化学镀与普通的电镀比较类似,同样存在严重的环保问题。
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真空溅镀 (EMI Sputter plating)
, \3 _+ r; ?0 R4 S基本原理为将金属通过真空辉光放电沉积在塑料部件上,其主要优点是美观和显著的屏蔽性质膜层连续且非常致密。膜层为0.5~2μm厚,且相当均匀。
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尼龙,聚芳基化物,聚酯,丙烯睛——丁二烯——苯乙烯三元共聚物,聚苯乙烯和聚碳酸酯很适合此种工艺。真空溅射整套设备的费用较贵,其尺寸大小将限制需要镀覆的部件的数量。而且保证平滑的金属涂层所用的夹具也将占用小室的空间。目前该核心技术主要掌握在几家国外大公司手中,尤其以德国技术水平最高。影响该生产工艺价格的主要因素有生产设备、生产工艺等方面,如能够进行国产化则价格可以相当低廉。
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通常,真空镀覆的涂层是均匀的,不影响塑料的冲击强度,也不影响其内部公差。这种处理能提供涂层的最佳选择,能屏蔽某些产品的重要区域而堵塞穿孔。能给出上至70dB抗扰度,并具有抗腐蚀性。该工艺是一种全新的完全环保制程,不存在任何环保问题。
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. `* R; }0 M' @各种EMI处理方法的比较# c7 ^" j6 Y4 u
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EMI溅射镀膜的原理
& g3 P8 ] d8 [4 w原理说明:2 w) t& Y3 n( ^! r* V; Q
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~2 u" V# B$ Q1 |/ G6 K" y1. 在10-7 Torr 高度真空状态下,充入适量氩气;
, Q! A3 E% t! d; R2. 施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金
3 ^" {) |' H0 q, I0 O& n属靶材,溅射出金属离子;
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3. 金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上,形成
5 t0 _# j; Q) K% u( Q P金属离子薄膜。
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EMI溅射镀膜的特点. }3 v. x( A P& v3 ?# [) }
A、EMI溅射镀膜具有以下特点:
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B、价格低(国内拥有自主知识产权的话)。
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C、真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5~2μm,绝对不影响装配。
' {& E3 O) r' G: A |! MD、真空溅射是彻底的环保制程,绝对环保无污染。
/ y( v0 [' [6 y+ nE、欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、
* z4 h+ @: [; e: uF、绝缘材料皆可使用(例:铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等)。被溅射基材几无限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。
9 N, _9 O7 e4 i- wG、膜质致密均匀、膜厚容易控制。
. A1 R* o: O0 `0 `3 z! SH、附著力强(ASTM3599方法测试4B)。
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J、可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且,可随客户指定变换镀层次序。
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9 Y0 V# b2 [+ A( T% r4 m8 v真空溅镀EMI的应用范围
5 Y! ]; R9 M0 A% Z! B' S真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点,广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。
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Chassis 测量分类( U" A, a6 u4 b9 K7 r" a
完整溅镀区域的阻抗:0.05Ω
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* c0 P; y8 j& h2 K溅镀区域与其他材质区域的连接阻抗:0.5Ω
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溅镀区域与其他材质区域的连接阻抗:0.5Ω
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溅镀平面与BOSS间的阻抗:约为0.5Ω
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Electric Paint (top)
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% t6 Z+ i1 a$ \9 jElectric Paint (bottom)
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% L4 P& {; }3 W, C# S; ? sEMI sputter plating (top)
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EMI sputter plating (bottom)
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. Y+ K6 z, Y6 O* tLCD COVER 阻值SPE:
d2 D# ^; k4 ?5 S! a平面对角 5Ω以下
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TOP 阻值SPEC(暂定):
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平面对角5Ω以下;
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: w& f) Q! h. m# mbottom 阻值SPEC(暂定):平面对
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角 5Ω以下
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