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DXP做多层板时候有两种做内电层的方法
* l- O/ j; W( Z( S( h. ?& r1:在layer stack manger里面选择 add layer* B4 f5 m* Q2 h# N' O( q
相当于增加一个布线层,然后在这个层里面大面积敷铜连接到网络3 T8 e9 U$ t k% P" a0 @/ D
2:在layer stack manger里面选择 add plane
3 u+ ^2 Z8 N, O+ `6 ?7 b) ] 再进行内电层分割- P* ^- ~9 H2 R4 P" `5 {
3 E( f0 }3 F8 n* m2 E8 @ u
请问一般大家用那种呀?
& q0 k) r$ O% g0 J1 ?. ^( q% I1 z8 V$ n7 m. Q; I r
我看到有人用第一种的时候把铜膜设置为网状的hatched类型
2 w* k4 x5 [6 A+ R v" j想问下用add plane时候可以设置这样的铜膜类型不呢? f; G; }- f7 O4 H
用那种类型的铜膜好点呢?
' y+ b5 A( \" H; \0 i( B( }* d% A- h6 P5 G* u( E+ j
还有用 add plane的时候该如何设置内电层的边界大小尺寸呀?
4 o- u/ n3 |4 K7 `5 b' y4 N没有看到相关的命令呀
: l- }, ~+ ~: N6 r, U; P2 Y& S8 T8 K( c8 Q& w5 }
谢谢# [4 }( H, x" W( V) i/ Q
非常感谢 |
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