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基于砷化镓制程的异质结器件建模实践

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发表于 2018-12-19 07:00 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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基于砷化镓制程的异质结器件建模实践

摘要:这两年,化合物半导体的发展得到国家的大力支持,化合物半导体具有高的电子迁移率,高的反向击穿电压等特性,在移动终端上得到广泛的应用。而创建化合物半导体的器件模型,供集成电路设计者用于设计复杂集成电路,是集成电路代工厂的关键技术之一。化合物异质PN结,则是组成HBT的最基本结构,有必要系统地分析、创建PN结的电路仿真模型。经过几十年的发展,基于Si制程的PN结数学模型已经完善,但缺乏对化合物半导体的异质PN结模型的相关著述。基于Si制程的数学模型,应用到砷化镓制程,并用Verilog-A实现电路仿真模型的创建。最后,给出对应模型参数的提取方法,确保模型DC特性、RF特性的仿真结果跟实际测试数据高度一致。通过对砷化镓制程的PN结测量、建模,可以得出该Verilog-A模型的正确性、通用性。
关键词:半导体器件模型;集成电路;PN结;Verilog-A模型;化合物半导体
中图分类号:(O475)      文献标识码:A

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