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标题: 集成电路制造工艺课件 [打印本页]
作者: Get123    时间: 2022-11-8 08:56
标题: 集成电路制造工艺课件
几种常见的光刻方法1 a' W2 u7 C6 T' s3 ^: Q. `( R; D
接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩膜版和光刻胶膜的损伤。2 |. H/ F% P; F8 k% R
接近式曝光：在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙(10～25m)，可以大大减小掩膜版的损伤，分辨率较低1 a; T7 p4 ~; {6 \: Q
投影式曝光：利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的曝光方法，目前用的最多的曝光方式
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作者: nevadaooo    时间: 2022-11-8 10:47
现在我们的光刻机28nm还没有
作者: 瞪郜望源_21    时间: 2022-11-8 14:57
不错不错，很是稀饭和专业，学习下
作者: joyce321    时间: 2022-11-16 17:42
看看有没有用6 C: a% H) A0 P/ }
作者: carriewu    时间: 2022-11-17 11:08
学习学习
作者: awei1981    时间: 2022-11-24 12:13
集成电路制造课件
作者: Andy311    时间: 2022-11-24 13:53
学习
作者: chenrunquan    时间: 2023-4-8 11:14
感谢分享0 p. E1 R6 C4 o% c, B1 D8 z6 `8 h

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